[发明专利]溢流装置、处理装置及光学膜材的形成方法在审

专利信息
申请号: 201710364573.6 申请日: 2017-05-22
公开(公告)号: CN107097438A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 陈志耕;苏丘容 申请(专利权)人: 住华科技股份有限公司
主分类号: B29C71/00 分类号: B29C71/00;C08J5/18;C08L29/04;C02F1/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 梁挥,鲍俊萍
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种溢流装置及处理装置及光学膜材的形成方法。溢流装置用于处理装置,以控制其中的处理液的流向,包括盒体部、引流板以及排水管。排水管连接于盒体部。引流板可动地配置于盒体部的至少一侧上,以随处理液的液面调整高度,使处理液导引至盒体部内。
搜索关键词: 溢流 装置 处理 光学 形成 方法
【主权项】:
一种溢流装置,其特征在于,包括:一盒体部;一引流板,可动地配置于该盒体部的至少一侧上,该引流板的高度可调式;以及一排水管,连接于该盒体部。
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