[发明专利]溢流装置、处理装置及光学膜材的形成方法

说明书

技术领域

本揭露是有关于一种溢流装置及处理装置，且特别是有关于一种可随液面调整高度的溢流装置及应用其的处理槽。

背景技术

光学膜材通常需要历经各种液体处理的湿式制程，但于工艺期间，容易产生膜屑或尘埃等杂质漂浮于处理液之中，经回流后便有很高的机率附着于光学膜材上，导致缺陷产生。

发明内容

本揭露内容有关于一种溢流装置及处理装置及光学膜材的形成方法。溢流装置包括一引流板，可动地配置于盒体部的至少一侧上，且引流板的高度为可调式，以控制处理液的流向并将其导引至盒体部内过滤掉杂质，减少杂质沾附于光学膜材上的机率。

根据本揭露的一方面，提出一种溢流装置。此溢流装置包括一盒体部、一引流板以及一排水管。引流板可动地配置于盒体部的至少一侧上，且引流板的高度为可调式。排水管连接于盒体部。

其中，该引流板具有一开孔；该引流板借由一固定件穿过该开孔而固定于该盒体部的该至少一侧上；且/或该开孔为长条孔。

其中，更包括一过滤件；该过滤件可拆卸地配置于该盒体部内；且/或该过滤件具有每平方英寸20～500的孔目数。

其中，该排水管可拆卸地连接于该盒体部；且/或该盒体部具有一通孔，该排水管具有一开口，该开口适于嵌入该通孔中，使该排水管与该盒体部结合；且/或该排水管更包括一提把；且/或该排水管内设置一过滤网，该过滤网具有每平方英寸40～2500的孔目数。

其中，该引流板可动地配置于该盒体部的相对二侧上；且/或该引流板具有一起伏结构，其中该起伏结构的形状为弧形、三角形、梯形、多边形或上述图形的组合。

其中，该起伏结构符合0.005≦L/a≦1及0.03≦H/c≦1，其中L为该起伏结构相邻波段的该最高点之间的距离，H为该起伏结构的该最高点与该最低点之间的距离，a为该盒体部的长度，c为该盒体部的高度。

其中，该盒体部符合2≦(ab)/A≦200及c/a≦0.5，其中a为该盒体部的长度，b为该盒体部的宽度，c为该盒体部的高度，A为该排水管的截面积；且/或a不大于750cm，b不大于20cm以及c不大于150cm；A不大于300cm²。

根据本揭露的另一方面，提出一种处理装置，包括处理槽以及上述溢流装置。处理槽中容置处理液，溢流装置设置于处理槽之内。

其中，该处理槽更包括一第一壁、一第二壁、一第三壁及一第四壁，该第一壁与该第三壁相对，该第二壁与该第四壁相对；该至少一溢流装置系设置于该第一壁、该第二壁、该第三壁及该第四壁的至少一壁上；且/或该处理槽系一膨润槽、一染色槽、一交联槽，及/或一水洗槽。

其中，该溢流装置横跨于该第二壁及该第四壁，且该溢流装置的长度延伸方向与该第一壁和该第三壁的方向平行。

根据本揭露的另一方面，提出一种光学膜材的形成方法，此方法包括以下步骤。进行输送光学膜材经过上述处理装置的步骤。接着，进行干燥光学膜材的步骤。

其中，该光学膜材为一聚乙烯醇树脂膜；且/或该光学膜材的行进方向与该溢流装置的长度延伸方向大致垂直；且/或该光学膜材由该溢流装置以下的该处理液中通过。

为了对本揭露的上述及其他方面有更佳的了解，下文特举实施例，并配合所附图式详细说明如下：

附图说明

图1绘示根据本揭露一些实施例中，光学膜材的工艺设备示意图。

图2A绘示根据本揭露一实施例的处理装置的处理槽的处理液的循环示意图。

图2B绘示图2A的处理槽的上视图。

图3A绘示根据本揭露另一实施例的处理装置的处理槽的处理液的循环示意图。

图3B绘示图3A的处理槽的上视图。

图4绘示根据本揭露一实施例的处理槽的部分分解图。

图5绘示根据本揭露一实施例的处理槽的立体图。

图6A～图6K分别绘示本揭露一些实施例的不同形状的起伏结构。

其中，附图标记：

1：处理槽

2：处理液

3：溢流装置

3e：内部空间

4：过滤件

10：净化装置

11：第一壁

12：第二壁

13：第三壁

14：第四壁

30：排水管

30h：开口

31：引流板

31A、31B、31C、31D、31E、31F、31G、31H、31I、31J、31K：起伏结构