[发明专利]开缝矩形波导的分层电铸方法

摘要

一种开缝矩形波导的分层电铸方法，属于电加工领域，包括以下步骤：步骤1：在基片（1）表面涂覆一层光刻胶（2）；步骤2：进行第一次曝光；步骤3：进行第一次显影；步骤4：电铸一层铜（4）；步骤5：进行精密抛磨；步骤6：涂覆一层光刻胶（5）；步骤7：进行第二次曝光；步骤8：进行第二次显影；步骤9：进行表面导电化处理；步骤10：对第一层铜进行微量电解，去除表面的氧化膜；步骤11：电铸第二层铜，形成电铸体（9）；步骤12：溶解掉多余的光刻胶，取出电铸体（9），对表面进行精密抛磨；步骤13：清洗电铸体（9），得到开缝矩形波导（10）。开缝矩形波导由两次电铸铜得到，加工精度高，工艺适应性强。

主权项

1.一种开缝矩形波导的分层电铸方法，开缝矩形波导的开缝结构高度为L2, 矩形槽结构高度为L3,其特征在于包括以下过程：步骤1.制备芯模，芯模由下层结构和上层结构两部分组成，其中下层结构是厚度为L2的微小长方体柱阵列结构，上层结构是厚度是L3为长方体结构，具体制备方法如下：步骤1‑1： 在基片（1）表面涂覆一层厚度为L1的第一层光刻胶（2）；步骤1‑2： 将步骤1‑1中经过第一次覆膜的基片（1）放置在光刻机载物台上，用第一次曝光掩模板（3）进行第一次曝光；步骤1‑3：将步骤1‑2中经过第一次曝光后的基片（1）放入显影液中进行第一次显影，显影后清洗并干燥，得到芯模下层初步结构，其高度为L1；步骤1‑4：在步骤1‑3中经过第一次显影后的基片（1）表面电铸一层厚度为L1的第一层铜（4）；步骤1‑5： 对步骤1‑4所得结构表面进行精密抛磨，保证第一层铜（4）和芯模下层结构的厚度为L2；步骤1‑6： 在步骤1‑5所得结构表面涂覆一层厚度为L3的第二层光刻胶（5）；步骤1‑7： 将步骤1‑6中经过第二次覆膜的基片（1）放置在光刻机载物台上，用第二次曝光掩模板（6）进行第二次曝光；步骤1‑8：将步骤1‑7中经过第二次曝光后的基片（1）放入显影液中进行第二次显影，显影后清洗并干燥，得到芯模上层结构；步骤1‑9： 在步骤1‑8中经过第二次显影的基片（1）表面盖上掩膜（7），对芯模上层结构上表面进行表面导电化处理形成一层导电膜；步骤1‑10：对第一层铜（4）上表面进行微量电解，去除表面的氧化膜；步骤1‑11：在步骤1‑10中去除了氧化膜的第一层铜（4）基础上电铸第二层铜，第一层铜（4）和第二层铜共同组成电铸体（9），芯模位于电铸体（9）中；步骤2：溶解掉多余的光刻胶，从基片（1）上取下电铸体（9），对表面进行精密抛磨，得到所需外部尺寸；步骤3：清洗电铸体（9），得到的即为所需的开缝矩形波导（10）。