[发明专利]开缝矩形波导的分层电铸方法有效
申请号: | 201710315486.1 | 申请日: | 2017-05-08 |
公开(公告)号: | CN107177867B | 公开(公告)日: | 2019-01-11 |
发明(设计)人: | 房晓龙;曲宁松;朱嘉澄 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | C25D1/10 | 分类号: | C25D1/10 |
代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 贺翔 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 矩形波导 分层 电铸 方法 | ||
1.一种开缝矩形波导的分层电铸方法,开缝矩形波导的开缝结构高度为L2, 矩形槽结构高度为L3,其特征在于包括以下过程:
步骤1.制备芯模,芯模由下层结构和上层结构两部分组成,其中下层结构是厚度为L2的微小长方体柱阵列结构,上层结构是厚度是L3为长方体结构,具体制备方法如下:
步骤1-1: 在基片(1)表面涂覆一层厚度为L1的第一层光刻胶(2);
步骤1-2: 将步骤1-1中经过第一次覆膜的基片(1)放置在光刻机载物台上,用第一次曝光掩模板(3)进行第一次曝光;
步骤1-3:将步骤1-2中经过第一次曝光后的基片(1)放入显影液中进行第一次显影,显影后清洗并干燥,得到芯模下层初步结构,其高度为L1;
步骤1-4:在步骤1-3中经过第一次显影后的基片(1)表面电铸一层厚度为L1的第一层铜(4);
步骤1-5: 对步骤1-4所得结构表面进行精密抛磨,保证第一层铜(4)和芯模下层结构的厚度为L2;
步骤1-6: 在步骤1-5所得结构表面涂覆一层厚度为L3的第二层光刻胶(5);
步骤1-7: 将步骤1-6中经过第二次覆膜的基片(1)放置在光刻机载物台上,用第二次曝光掩模板(6)进行第二次曝光;
步骤1-8:将步骤1-7中经过第二次曝光后的基片(1)放入显影液中进行第二次显影,显影后清洗并干燥,得到芯模上层结构;
步骤1-9: 在步骤1-8中经过第二次显影的基片(1)表面盖上掩膜(7),对芯模上层结构上表面进行表面导电化处理形成一层导电膜;
步骤1-10:对第一层铜(4)上表面进行微量电解,去除表面的氧化膜;
步骤1-11:在步骤1-10中去除了氧化膜的第一层铜(4)基础上电铸第二层铜,第一层铜(4)和第二层铜共同组成电铸体(9),芯模位于电铸体(9)中;
步骤2:溶解掉多余的光刻胶,从基片(1)上取下电铸体(9),对表面进行精密抛磨,得到所需外部尺寸;
步骤3:清洗电铸体(9),得到的即为所需的开缝矩形波导(10)。
2.根据权利要求1所述的一种开缝矩形波导的分层电铸方法,其特征在于:在同一个基片上同时加工多个开缝矩形波导。
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