[发明专利]一种化学气相沉膜装置

摘要

本发明公开一种化学气相沉膜装置，其中，该化学气相沉膜装置包括制程腔体、传递腔体、承载腔体、用于对所述传递腔体进行抽真空的第一真空泵以及用于对所述承载腔体进行抽真空的第二真空泵，所述传递腔体与所述第二真空泵还通过连通管路连接。本发明充分利用对承载腔体进行抽真空的第二真空泵，通过在传递腔体与第二真空泵之间增设连通管路进行连接，以使得第一真空泵与第二真空泵能够同时对传递腔体进行抽真空，可以加快对传递腔体进行抽真空的速度，因而，缩短了保养后进行抽真空的时间，以提早实现复机。同时采用第一真空泵与第二真空泵对传递腔体进行抽真空，可以减少抽真空时间。

主权项

一种化学气相沉膜装置，其特征在于，所述化学气相沉膜装置包括：制程腔体，所述制程腔体用于对基板进行化学气相沉膜；传递腔体，所述传递腔体用于将所述基板传入所述制程腔体内；承载腔体，所述承载腔体用于将所述基板传入所述传递腔体内；第一真空泵，所述第一真空泵用于对所述传递腔体进行抽真空；第二真空泵，所述第二真空泵用于对所述承载腔体进行抽真空；以及，连通管路，所述传递腔体与所述第二真空泵还通过所述连通管路连接。