[发明专利]检测装置、工艺系统和检测方法有效
申请号: | 201710301590.5 | 申请日: | 2017-05-02 |
公开(公告)号: | CN107421916B | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 王学勇;周连猛;冯长海;王治 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/59 | 分类号: | G01N21/59 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 汪源;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种检测装置、工艺系统和检测方法。该检测装置包括箱体和灰化检测装置,所述箱体的入光侧上设置有开口,所述开口上设置有窗体,所述箱体的出光侧上设置有狭缝;所述窗体用于将入射的照射光透射至所述狭缝;所述狭缝用于将所述照射光透射至位于所述箱体出光侧外部的目标基板上;所述灰化检测装置用于检测所述目标基板是否发生灰化。本发明提供的检测装置、工艺系统和检测方法的技术方案中,灰化检测装置可检测目标基板是否发生灰化,当灰化检测装置检测出目标基板发生灰化时可立即停止照射光照射到目标基板上,从而避免了灰化产生的颗粒污染设备。 | ||
搜索关键词: | 检测 装置 工艺 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种检测装置,其特征在于,包括箱体和灰化检测装置,所述箱体的入光侧上设置有开口,所述开口上设置有窗体,所述箱体的出光侧上设置有狭缝;所述窗体用于将入射的照射光透射至所述狭缝;所述狭缝用于将所述照射光透射至位于所述箱体出光侧外部的目标基板上;所述灰化检测装置用于检测所述目标基板是否发生灰化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710301590.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。