[发明专利]磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的调控装置

摘要

本发明属于放射源制备技术，具体涉及一种磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的调控装置。其结构包括二维定位支架和设置在二维定位支架上的永磁体调控台面，所述的永磁体调控台面包括底座，所述底座上设有用于固定沉积槽的孔，在孔的两侧设置用于固定永磁体的磁铁固定板和用于调节永磁体位置的位移传动装置；在所述二维定位支架的上部设有电极和电极旋转电机，并外置调整电极高度和旋转速度的控制器，电极的下端安装阳极丝，所述电极的中心位于永磁体调控台面底座上沉积槽固定孔中心的正上方。本发明可以对放射源制备过程中的条件进行准确的调节控制，可以提高沉积的重复性和操作安全性，同时沉积效率和源的能量分辨率也有很大提高。

主权项

1.一种磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的调控装置，其特征在于：包括二维定位支架和设置在二维定位支架上的永磁体调控台面，所述的永磁体调控台面包括底座(1)，所述底座(1)上设有用于固定沉积槽的孔，在孔的两侧设置用于固定永磁体的磁铁固定板(5)和用于调节永磁体位置的位移传动装置；在所述二维定位支架的上部设有电极(3)和电极旋转电机，并外置调整电极高度和旋转速度的控制器，电极(3)的下端安装阳极丝(4)，所述电极(3)的中心位于永磁体调控台面底座上沉积槽固定孔中心的正上方。