[发明专利]磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的调控装置有效

专利信息
申请号: 201710284563.1 申请日: 2017-04-26
公开(公告)号: CN107059096B 公开(公告)日: 2019-06-18
发明(设计)人: 张鹏;林敏;徐利军;张卫东;陈义珍 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00;C25D21/12;C25D17/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 流体动力学 沉积 法制 高分辨率 放射源 调控 装置
【权利要求书】:

1.一种磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的调控装置,其特征在于:包括二维定位支架和设置在二维定位支架上的永磁体调控台面,所述的永磁体调控台面包括底座(1),所述底座(1)上设有用于固定沉积槽的孔,在孔的两侧设置用于固定永磁体的磁铁固定板(5)和用于调节永磁体位置的位移传动装置;在所述二维定位支架的上部设有电极(3)和电极旋转电机,并外置调整电极高度和旋转速度的控制器,电极(3)的下端安装阳极丝(4),所述电极(3)的中心位于永磁体调控台面底座上沉积槽固定孔中心的正上方。

2.如权利要求1所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的调控装置,其特征在于:所述的用于调节永磁体位置的位移传动装置包括轴承座(8)、丝杠(6)和滑块(7),丝杠(6)设置在轴承座(8)上,滑块(7)与丝杠(6)螺纹连接,磁铁固定板(5)固定在滑块(7)上。

3.如权利要求1所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的调控装置,其特征在于:所述永磁体调控台面的底座(1)上设有用于读取永磁体轴向端面中心与沉积槽中阴极沉积源片中心之间距离的刻度线。

4.如权利要求1-3中任意一项所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的调控装置,其特征在于:位于沉积槽固定孔两侧的位移传动装置对称设置。

5.如权利要求1所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的调控装置,其特征在于:所述的二维定位支架包括底板(2)和垂直固定架(9),永磁体调控台面安装在所述底板(2)上,垂直固定架(9)上设有呈水平状的垂直升降臂(10),所述电极(3)和电极旋转电机均设置在垂直升降臂(10)上,垂直升降臂的升降由外置的控制器进行操作,并通过电动调节丝杠螺母传动装置来实现其上下移动。

6.如权利要求1所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的调控装置,其特征在于:所述的二维定位支架和永磁体调控台面均采用无磁性材料。

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