[发明专利]一种应用于光谱仪器的二级和高级衍射光谱的消除方法有效
申请号: | 201710277584.0 | 申请日: | 2017-04-25 |
公开(公告)号: | CN106969835B | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 隋成华;陈晓明;汪飞 | 申请(专利权)人: | 杭州博源光电科技有限公司 |
主分类号: | G01J3/28 | 分类号: | G01J3/28 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 311422 浙江省杭州市富阳区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种应用于光谱仪器的二级和高级衍射光谱的消除方法,包括如下步骤:1)根据探测器尺寸和光谱仪器的光谱范围设计滤光片尺寸,并对滤光片进行分区镀膜。2)将滤光片贴在探测器表面,并测出不同积分时间下的钨灯光源光谱,对光谱凹陷处进行补偿,与原光谱进行对比,获得修正数据。3)将修正数据烧入光谱仪器下位机EEPROM。通过滤光片和下位机修正获得了一种成本极低的二级和高级衍射光谱消除方法,可以广泛应用于光栅色散型光谱仪器中。 | ||
搜索关键词: | 一种 应用于 光谱 仪器 二级 高级 衍射 消除 方法 | ||
【主权项】:
1.一种应用于光谱仪器的二级和高级衍射光谱的消除方法,包括如下步骤:(1)利用光谱仪器测得钨灯光源的光谱S0;(2)根据探测器尺寸设计滤光片尺寸,并根据光谱仪器的测试光谱范围对该滤光片进行分区镀膜;(3)将分区镀膜后的滤光片贴在探测器表面,并测出不同积分时间下钨灯光源的光谱Si;(4)对光谱Si的凹陷处进行补偿,将光谱Si与光谱S0进行对比,获得修正数据;(5)将修正数据烧入光谱仪器下位机EEPROM;(6)利用分区镀膜的滤光片和含有修正数据的光谱仪器对任意光源进行测试,获得消除了二级和高级衍射的任意光源的光谱;步骤(4)的具体步骤为:首先,利用任意多个积分时间下的光谱Si中凹陷处的数据进行三次拟合,拟合方程为:E(m)=c0+c1m+c2m2+c3m3,其中,m为像素,E为强度,c0、c1、c2、c3为拟合方程系数,获得凹陷处平滑光谱数据;然后,将该平滑光谱的数据除以光谱S0的数据,得到修正数据。
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