[发明专利]一种应用于光谱仪器的二级和高级衍射光谱的消除方法

权利要求书

1.一种应用于光谱仪器的二级和高级衍射光谱的消除方法，包括如下步骤：

(1)利用光谱仪器测得钨灯光源的光谱S₀；

(2)根据探测器尺寸设计滤光片尺寸，并根据光谱仪器的测试光谱范围对该滤光片进行分区镀膜；

(3)将分区镀膜后的滤光片贴在探测器表面，并测出不同积分时间下钨灯光源的光谱S_i；

(4)对光谱S_i的凹陷处进行补偿，将光谱S_i与光谱S₀进行对比，获得修正数据；

(5)将修正数据烧入光谱仪器下位机EEPROM；

(6)利用分区镀膜的滤光片和含有修正数据的光谱仪器对任意光源进行测试，获得消除了二级和高级衍射的任意光源的光谱；

步骤(4)的具体步骤为：

首先，利用任意多个积分时间下的光谱S_i中凹陷处的数据进行三次拟合，拟合方程为：E(m)＝c₀+c₁m+c₂m²+c₃m³，其中，m为像素，E为强度，c₀、c₁、c₂、c₃为拟合方程系数，获得凹陷处平滑光谱数据；

然后，将该平滑光谱的数据除以光谱S₀的数据，得到修正数据。

2.如权利要求1所述的应用于光谱仪器的二级和高级衍射光谱的消除方法，其特征在于，所述的根据光谱仪器的测试光谱范围对该滤光片进行分区镀膜的过程为：

镀膜分界线选在nλ₁处，且nλ₁满足nλ₁<λ₂，n为大于1的自然数；

采用掩膜板逐段遮盖的方式，在未遮盖nλ₁～(n+1)λ₁区域镀截止膜，截止波长为nλ₁；

其中，λ₁为光谱仪器的测试光谱范围的最小波长，λ₂为光谱仪器的测试光谱范围的最大波长。

3.如权利要求2所述的应用于光谱仪器的二级和高级衍射光谱的消除方法，其特征在于，所述截止波长为nλ₁膜的厚度小于30微米。

4.如权利要求3所述的应用于光谱仪器的二级和高级衍射光谱的消除方法，其特征在于，整个镀膜后的滤波片透过率大于90％。

5.如权利要求1所述的应用于光谱仪器的二级和高级衍射光谱的消除方法，其特征在于，所述的光谱仪器为光栅色散性光谱仪器。

6.如权利要求5所述的应用于光谱仪器的二级和高级衍射光谱的消除方法，其特征在于，所述的光栅色散性光谱仪器为光纤光谱仪。