[发明专利]使用衍射图案定向样品的系统有效
| 申请号： | 201710266075.8 | 申请日： | 2017-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN107424894B | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | J·F·弗拉纳根四世 | 申请（专利权）人： | FEI公司 |
| 主分类号： | H01J37/26 | 分类号： | H01J37/26;H01J37/21;H01J37/22 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 郑勇 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于对准带电粒子束系统中的样品的方法和装置。将带电粒子束指向所述样品以获得样品衍射图案。将样品衍射图案与已知对准偏差的参考衍射图案相比较以确定哪一个参考图案最接近样品图案。使用最佳匹配参考衍射图案的已知对准度来校正样品的倾斜。比较的“图案”可以是具有相应强度而不是图像的亮斑列表。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 衍射 图案 定向 样品 系统 | ||
【主权项】：
一种校正带电粒子束轴和结晶样品的晶带轴之间取向对准偏差的方法，包括：用带电粒子束照射结晶样品；记录样品衍射图案、由多个样品衍射斑点组成的带电粒子衍射图案；将所述样品衍射图案的衍射斑点的强度与多个参考衍射图案的相应衍射斑点的强度相关联，每一个所述参考衍射图案对应于带电粒子束轴和晶体晶带轴之间的已知对准偏差；以及使用与所述样品衍射图案最相关的参考图案的已知对准偏差来调节样品取向。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于FEI公司，未经FEI公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710266075.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：高生产量加热的离子注入系统和方法
- 下一篇：一种半导体设备前端处理装置
