[发明专利]使用衍射图案定向样品的系统有效
申请号: | 201710266075.8 | 申请日: | 2017-04-21 |
公开(公告)号: | CN107424894B | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | J·F·弗拉纳根四世 | 申请(专利权)人: | FEI公司 |
主分类号: | H01J37/26 | 分类号: | H01J37/26;H01J37/21;H01J37/22 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 郑勇 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 衍射 图案 定向 样品 系统 | ||
1.一种校正带电粒子束显微镜的带电粒子束轴和结晶样品的晶带轴之间取向对准偏差的方法,包括:
沿着带电粒子束轴用准直的带电粒子束照射结晶样品;
记录由多个样品衍射斑点组成的样品衍射图案;
将所述样品衍射图案的衍射斑点的强度与多个参考衍射图案的相应衍射斑点的强度相关联,每一个所述参考衍射图案对应于带电粒子束轴和结晶样品的晶带轴之间的已知对准偏差;
使用与所述样品衍射图案最相关的参考衍射图案的已知对准偏差来调节结晶样品与带电粒子束轴的相对取向,以校正结晶样品的晶带轴和带电粒子束轴之间的对准偏差,以及
在调整结晶样品与带电粒子束轴的相对取向之后,使用所述带电粒子束显微镜观察结晶样品。
2.根据权利要求1所述的方法,其中使用计算机模拟生成所述多个参考衍射图案。
3.根据权利要求2所述方法,其中:
所述多个参考衍射图案的每一个都包括斑点列表;以及
将所述样品衍射图案的衍射斑点的强度与多个参考衍射图案的相应衍射斑点的强度相关联包括将样品衍射斑点列表的强度与参考斑点列表相关联。
4.根据权利要求3所述的方法,其中将样品衍射斑点列表的强度与参考斑点列表相关联包括使用米勒指数将样品衍射斑点列表中的斑点与所述参考斑点列表中的斑点相匹配。
5.根据权利要求3所述的方法,其中将所述样品衍射斑点列表的强度与参考斑点列表相关联包括使用散射角度将样品衍射斑点列表中的斑点与所述参考斑点列表中的斑点相匹配。
6.根据权利要求3所述的方法,其中使用运动学散射模型创建所述多个参考衍射图案的斑点列表。
7.根据权利要求2至6任一项所述的方法,其中使用计算机模拟创建所述多个参考衍射图案包括使用排除动态散射贡献的散射模型。
8.根据权利要求6所述的方法,其中不需要索引所述参考衍射图案就能够确定参考衍射图案上斑点的强度。
9.根据权利要求8所述的方法,其中通过校正所述参考衍射图案能够确定参考衍射图案上斑点的强度。
10.根据权利要求2至6任一项所述的方法,其中使用计算机模拟创建所述多个参考衍射图案包括对积分的衍射峰值增加权重以放大Z轴激发因子效应。
11.根据权利要求1至6任一项所述的方法,其中所述多个参考衍射图案包括在两个维度内表示样品倾斜的倾斜系列。
12.一种校正带电粒子束显微镜的带电粒子束轴和结晶样品的晶带轴之间对准偏差的方法,包括:
沿着带电粒子束轴用准直的带电粒子束照射结晶样品;
记录样品衍射图案;
将所述样品衍射图案与多个参考衍射图案相关联,所述参考衍射图案的每一个对应于带电粒子束轴和结晶样品的晶带轴之间的已知对准偏差;
使用与所述样品衍射图案最相关的参考衍射图案的已知对准偏差来调节结晶样品与带电粒子束轴的相对取向,以校正结晶样品的取向;以及
在调整结晶样品与带电粒子束轴的相对取向之后,使用所述带电粒子束显微镜观察结晶样品。
13.根据权利要求12所述的方法,其中使用计算机模拟生成所述多个参考衍射图案。
14.根据权利要求13所述方法,其中:
所述多个参考衍射图案的每一个都包括斑点列表;以及
将所述样品衍射图案与多个参考衍射图案相关联,所述参考衍射图案的每一个包括将所述样品衍射斑点列表的强度与参考斑点列表相关联。
15.根据权利要求14所述的方法,其中使用计算机模拟创建所述多个参考衍射图案包括使用运动学散射模型生成多个参考衍射图案。
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