[发明专利]表面波等离子体加工设备有效
| 申请号： | 201710261107.5 | 申请日： | 2017-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN108735567B | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | 刘春明;韦刚 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供的表面波等离子体加工设备，其包括依次连接的微波发生装置、微波传输机构、天线机构和反应腔室，其中，天线机构包括天线腔体、滞波板、缝隙板和介质窗，其中，天线腔体设置在所述反应腔室顶部；滞波板、缝隙板和介质窗由上而下依次内嵌在所述天线腔体内；微波传输机构用于向滞波板加载微波能量，介质窗包括介质本体，在介质本体内设置有调节分体，且调节分体的下表面与介质本体的下表面相平齐；并且，调节分体的介电常数与介质本体的介电常数不同。本发明提供的表面波等离子体加工设备，其不仅可以提高等离子体的密度分布均匀性，而且可以降低制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 介质本体 表面波等离子体 加工设备 介质窗 滞波板 反应腔室 介电常数 天线机构 天线腔体 微波传输 缝隙板 下表面 等离子体 密度分布均匀性 微波发生装置 微波能量 依次连接 制造成本 天线腔 加载 内嵌 平齐 体内 | ||
【主权项】：
1.一种表面波等离子体加工设备，包括依次连接的微波发生装置、微波传输机构、天线机构和反应腔室，其中，所述天线机构包括天线腔体、滞波板、缝隙板和介质窗，其中，所述天线腔体设置在所述反应腔室顶部；所述滞波板、缝隙板和介质窗由上而下依次内嵌在所述天线腔体内；所述微波传输机构用于向所述滞波板加载微波能量，其特征在于，所述介质窗包括介质本体，在所述介质本体内设置有调节分体，且所述调节分体的下表面与所述介质本体的下表面相平齐；并且，所述调节分体与所述介质本体为介电常数不同的电介质；其中，/n所述调节分体为多个，且多个所述调节分体之间没有间隔，多个所述调节分体的介电常数不同。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710261107.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于真空互联扫描电镜样品托
- 下一篇：等离子体处理装置和控制方法
