[发明专利]反极性紫外LED外延结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710241337.5 申请日: 2017-04-13
公开(公告)号: CN106992233A 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 陈立人;刘恒山;陈伟;张广庚 申请(专利权)人: 聚灿光电科技股份有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)32235 代理人: 苏婷婷
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种反极性紫外LED外延结构及其制备方法,所述反极性紫外LED外延结构从下向上依次包括衬底,AlN外延缓冲层,AlGaN层,P型AlvGa(1‑v)NMg接触层,P型AlN层,Al组分渐变的P型AlxGa(1‑x)N垒层,AlInGaN/AlGaN多量子阱超晶格发光层,N型AlyGa(1‑y)N层,N型AlwGa(1‑w)N接触层。本发明通过改变传统的LED延着基板从N型量子阱到P型的外延结构及生长顺序,使其变更为P型AlGaN量子阱发光层到N型AlGaN的生长方式,进而使操作时的外加电厂与量子阱内的极化电厂方向相反,提高载流子的符合效率,同时P型P型AlxGa(1‑x)N层的Al组分X沿着外延生长方向从1变至大于0的数值,利用极化电场效应产生P形参杂,进一步解决P形参杂困难的问题。
搜索关键词: 极性 紫外 led 外延 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种反极性紫外LED外延结构,其特征在于,所述反极性紫外LED外延结构从下向上依次包括:衬底,AlN外延缓冲层,AlGaN层,P型AlvGa(1‑v)N:Mg接触层,P型AlN层,Al组分渐变的P型AlxGa(1‑x)N垒层,AlInGaN/AlGaN多量子阱超晶格发光层,N型AlyGa(1‑y)N层,N型AlwGa(1‑w)N接触层。
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