[发明专利]用于生产膜的方法和这样的膜在审
| 申请号： | 201710230912.1 | 申请日： | 2010-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN107419313A | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·汉德瑞克·沃尔特斯;哈姆·范达尔夫森;西布兰杜斯·雅各布·梅茨 | 申请（专利权）人： | 金属膜克姆有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/02 | 分类号： | C25D11/02;B01D71/02;B01D67/00;H01M8/22 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人： | 沈敬亭,李海霞 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于生产膜的方法和这样的膜。所述方法包括以下步骤为容器提供电解质；将一种结构置于所述容器中；以及为至少两个电极提供电位差，以在所述结构上实现等离子体电解氧化。优选地，所述结构包括金属结构，其中所述金属结构选自钛、铝、镁、锆、锌和铌、和/或合金的组。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生产 方法 这样 | ||
【主权项】：
一种用于生产膜的方法，包括以下步骤：‑为容器提供电解质；‑将一种结构置于所述容器中，其中所述结构包括金属结构，其中所述结构选自包括支持层、以及金属和/或合金层的复合结构；以及‑为至少两个电极提供电位差，以在所述结构上实现等离子体电解氧化，其中所述等离子体电解氧化在所述金属中产生孔，所述金属由此形成氧化层，其中所述孔的大多数在0‑2μm的范围内；采用所述金属的蚀刻操作和/或电化学溶解，至少去除所述支持层的一部分，从而获得膜并仍实现对产品的有效支持。
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