[发明专利]用于生产膜的方法和这样的膜在审

专利信息
申请号: 201710230912.1 申请日: 2010-07-20
公开(公告)号: CN107419313A 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 汉斯·汉德瑞克·沃尔特斯;哈姆·范达尔夫森;西布兰杜斯·雅各布·梅茨 申请(专利权)人: 金属膜克姆有限公司
主分类号: C25D11/02 分类号: C25D11/02;B01D71/02;B01D67/00;H01M8/22
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 代理人: 沈敬亭,李海霞
地址: 荷兰*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 生产 方法 这样
【权利要求书】:

1.一种用于生产膜的方法,包括以下步骤:

-为容器提供电解质;

-将一种结构置于所述容器中,其中所述结构包括金属结构,其中所述结构选自包括支持层、以及金属和/或合金层的复合结构;以及

-为至少两个电极提供电位差,以在所述结构上实现等离子体电解氧化,其中所述等离子体电解氧化在所述金属中产生孔,所述金属由此形成氧化层,其中所述孔的大多数在0-2μm的范围内;

采用所述金属的蚀刻操作和/或电化学溶解,至少去除所述支持层的一部分,从而获得膜并仍实现对产品的有效支持。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属结构选自钛、铝、镁、铯、锆、锌和铌、和/或合金的组。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述为容器提供电解质的步骤包括从稀的碱性流体或溶液的组选择电解质。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,所述结构被置于所述至少两个电极之间。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,使用所述金属结构作为所述电极之一。

6.根据权利要求1-3或5中任一项所述的方法,其中,使用所述容器作为所述电极之一。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法,其中,所述结构选自现有膜。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的方法,其中,提供电位差包括施加超过100伏,优选超过200伏的电压。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的方法,其中,提供电位差包括施加连续和/或脉冲直流,和/或连续和/或脉冲交流,包括负脉冲或双极性脉冲。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述脉冲直流和/或交流包括负脉冲或双极性脉冲。

11.一种膜,包括:

-一种结构;以及

-利用根据权利要求1-10中任一项所述的方法在所述结构上提供的多孔层。

12.根据权利要求11所述的膜,其中,所述多孔层包括在0-2μm,优选1-100nm范围内的孔。

13.根据权利要求12所述的膜,其中,所述孔的大多数,优选至少75%,更优选至少90%,在指定的范围内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于金属膜克姆有限公司,未经金属膜克姆有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710230912.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top