[发明专利]一种用于求解给定边框约束的VLSI版图设计方法

摘要

本发明涉及一种用于求解给定边框约束的VLSI版图设计方法，采用随机化的策略，将一个随机初始布局作为混合模拟退火算法的初始解。提出了将边框约束作为目标函数的违背惩罚函数。该函数在考虑围住候选布图结果的最小矩形超出给定边框的面积函数基础之上，引入了考虑各个模块超出给定边框的长度函数。在加入了混合模拟退火算法的基础上，又引入了可行解策略。使得经过一系列B*‑tree扰动产生的解都是可行解，从而使得算法能够得到较优的解。又引入了混合模拟退火算法来搜索最优解，在该算法中，新的温度更新公式被采用。新的温度更新公式缩短解空间搜索阶段的时间，将更多的时间用于在温度上升阶段寻找较优的解，增大了找到最优解的概率。

主权项

一种用于求解给定边框约束的VLSI版图设计方法，其特征在于，按照如下步骤实现：步骤S1：将版图规划表示为B*‑tree；步骤S2：初始化所述步骤S1获取的B*‑tree为完全二叉树，记为初始解I；步骤S3：设置算法迭代次数iterative＝0，设置最大的迭代数目；步骤S4：判断所述初始解I是否为可行解；步骤S5：通过一系列B*‑tree扰动产生邻居解；步骤S6：对所述步骤S5中的邻居解采用可行解策略，使得邻居解满足边框约束；步骤S7：采用混合模拟退火算法在解空间中搜索最优解；步骤S8：令iterative＝iterative+1；步骤S9：重复所述步骤S5至所述步骤S8，直到迭代次数iterative大于预设的迭代数目。