[发明专利]一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺在审
| 申请号： | 201710205933.8 | 申请日： | 2017-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN108660414A | 公开（公告）日： | 2018-10-16 |
| 发明（设计）人： | 王信德;潘修河 | 申请（专利权）人： | 江苏苏德涂层有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 常州知融专利代理事务所(普通合伙) 32302 | 代理人： | 王涵江 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种PVD涂层生产制造过程中的等离子刻蚀清洗工艺，该工艺主要采用惰性和非惰性气体不同组合混合作为反应气体，产生的等离子体可同时达到物理离子清洗和化学离子清洗的作用，既可以去除工件表面吸附的氧化物、油脂、微颗粒物等残留，还可以去除工件表面的金属性氧化物，活化工件表面能，生产效率较高，最终可提高PVD涂层与工件基体的结合力，同时使得涂层更加均匀，改善PVD涂层的各项性能，增加工件使用寿命，适宜进一步推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 工件表面 清洗工艺 氧化物 去除 等离子体 生产制造过程 等离子刻蚀 惰性气体 反应气体 工件基体 化学离子 活化工件 离子刻蚀 离子清洗 生产效率 使用寿命 微颗粒物 表面能 结合力 金属性 吸附 清洗 残留 | ||
【主权项】：
1.一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：该工艺包括如下步骤：a)将需要进行PVD涂层和刻蚀清洗的工件装夹在台车上，推进反应炉室后抽真空；b)待反应炉室内真空度达到5×10‑2‑1.5×10‑3mbar后，开始加热，加热到400～480℃范围内；c)待反应炉室内温度达到条件后，通入反应气体，控制气体流量和时间，调整偏压电源参数、金属靶材和蒸发源电源参数，产生等离子体，对工件基体进行离子刻蚀清洗，待离子刻蚀清洗完成后可以进行PVD涂层处理；所述步骤(c)中通入反应气体、控制气体流量和时间具体是：1)通入惰性气体，惰性气体流量为75～100sccm，离子刻蚀清洗时间为60～120s；2)通入惰性气体和非惰性气体混合气，惰性气体流量为25～50sccm，非惰性气体流量为50～75sccm，离子刻蚀清洗时间为120～240s；3)通入惰性气体，惰性气体流量为75～100sccm，离子刻蚀清洗时间为360～480s；4)通入非惰性气体，非惰性气体流量为75～125sccm，离子刻蚀清洗时间为720～1080s；所述的惰性气体是Ar或Ne中的一种；非惰性气体是H2或O2中的一种。
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