[发明专利]一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺在审
| 申请号： | 201710205933.8 | 申请日： | 2017-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN108660414A | 公开（公告）日： | 2018-10-16 |
| 发明（设计）人： | 王信德;潘修河 | 申请（专利权）人： | 江苏苏德涂层有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 常州知融专利代理事务所(普通合伙) 32302 | 代理人： | 王涵江 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 工件表面 清洗工艺 氧化物 去除 等离子体 生产制造过程 等离子刻蚀 惰性气体 反应气体 工件基体 化学离子 活化工件 离子刻蚀 离子清洗 生产效率 使用寿命 微颗粒物 表面能 结合力 金属性 吸附 清洗 残留 | ||
1.一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：该工艺包括如下步骤：
a)将需要进行PVD涂层和刻蚀清洗的工件装夹在台车上，推进反应炉室后抽真空；
b)待反应炉室内真空度达到5×10-2-1.5×10-3mbar后，开始加热，加热到400～480℃范围内；
c)待反应炉室内温度达到条件后，通入反应气体，控制气体流量和时间，调整偏压电源参数、金属靶材和蒸发源电源参数，产生等离子体，对工件基体进行离子刻蚀清洗，待离子刻蚀清洗完成后可以进行PVD涂层处理；
所述步骤(c)中通入反应气体、控制气体流量和时间具体是：
1)通入惰性气体，惰性气体流量为75～100sccm，离子刻蚀清洗时间为60～120s；
2)通入惰性气体和非惰性气体混合气，惰性气体流量为25～50sccm，非惰性气体流量为50～75sccm，离子刻蚀清洗时间为120～240s；
3)通入惰性气体，惰性气体流量为75～100sccm，离子刻蚀清洗时间为360～480s；
4)通入非惰性气体，非惰性气体流量为75～125sccm，离子刻蚀清洗时间为720～1080s；
所述的惰性气体是Ar或Ne中的一种；非惰性气体是H2或O2中的一种。
2.根据权利要求1所述的一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：所述步骤(c)中调整偏压电源参数对应于上述通入反应气体和控制气体流量中依次的四个步骤，步骤1)通入惰性气体时偏压为350～450V，步骤2)通入惰性气体和非惰性气体混合气时的偏压为400～500V，步骤3)通入惰性气体时的偏压为550～650V，步骤4)通入非惰性气体时的偏压为700～800V；上述偏压过程中的Uarc为35～50，Iarc为15～25，Arcdelay为10～30。
3.根据权利要求1所述的一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：所述步骤(c)中的调整金属靶材和蒸发源电源参数是指：金属靶材为Ti靶或Cr靶中的一种，蒸发源电源设置参数的电压范围为18～21V，电流范围为90～110A。
4.根据权利要求1所述的一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：所述偏压电源和蒸发源电源为直流电源，偏压电源的输出功率为15Kw，蒸发源电源的输出功率为6Kw。
5.根据权利要求1所述的一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：所述Ar和H2的纯度均为99.99％，金属靶材Ti靶和Cr靶的纯度为99.99at.％。
6.根据权利要求1所述的一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：所述反应炉室中带有旋转驱动。
7.根据权利要求6所述的一种PVD涂层用离子刻蚀清洗工艺，其特征是：所述工件在台车上的旋转包括：公转、自转、拨片使转动共三级旋转，所述的台车公转速度为1.5-3rpm。
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