[发明专利]一种玻璃孔表面缺陷层深度测量方法有效

专利信息
申请号: 201710203339.5 申请日: 2017-03-30
公开(公告)号: CN107063112B 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 鲁卫国;王晓辉;王晓荣;王丽娜;李大琪 申请(专利权)人: 中国航空工业集团公司西安飞行自动控制研究所
主分类号: G01B11/22 分类号: G01B11/22;G01N21/958
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 张毓灵
地址: 710065 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明属于光学零件缺陷层检测技术,具体涉及一种玻璃孔表面缺陷层深度测量方法。所述玻璃孔表面缺陷层深度测量方法包括具有孔结构的试件制备、孔表面的微量腐蚀、缺陷层的精密检测,所述具有孔结构的试件设置两块带有角度的楔形零件,所述孔表面微量腐蚀采用HF腐蚀,所述缺陷层的精密检测应用KEYENCE激光共聚焦显微镜在1500X下进行观测。本发明一种玻璃孔表面缺陷层深度测量方法应用金刚石钻头在玻璃中打孔通过光胶面时光胶面与孔口交接处无二次缺陷的原理,通过光胶面孔口的微量化学腐蚀将孔表面损伤层显现出来,然后通过KEYENCE激光共聚焦显微镜观测将损伤层深度测量出来。
搜索关键词: 一种 玻璃 表面 缺陷 深度 测量方法
【主权项】:
1.一种玻璃孔表面缺陷层深度测量方法,其特征在于:将两块楔形零件的角度面光学抛光后达到光胶要求之后将两角度面光胶在一起,并打孔得到贯通的孔结构,所述孔结构[3]轴线与角度面成30度角并贯穿角度面[2];然后采用液位上升的方法对孔结构表面进行微量腐蚀,并利用显微镜对缺陷层进行测量;对孔结构表面进行微量腐蚀的方法具体为:将具有孔结构的楔形零件[1]以角度面[2]向下放置在存放HF酸[4]的容器口并保持平行,在容器中添加HF酸[4]以致其液位上升至角度面[2]接触,从而对孔结构[3]表面进行微量腐蚀。
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