[发明专利]一种基于全内反射结构光照明的宽场超分辨显微成像方法和装置有效
| 申请号： | 201710157142.2 | 申请日： | 2017-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN106950208B | 公开（公告）日： | 2019-06-18 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;刘文杰;陈友华;朱大钊;刘旭;张克奇;毛磊 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 郑红莉 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于全内反射结构光照明的宽场超分辨显微成像方法，包括：激光光束分成两路传播方向对称且振动方向垂直的线偏振光；将两路线偏振光转换为两束切向线偏振光，投射到荧光样品上发生全反射并相互干涉产生条纹结构光照明图样；收集样品发出的荧光信号，得到荧光强度信息；依次旋转结构光照明图样的干涉条纹的方向，在各方向下多次改变干涉条纹的相位，得到各方向的对应相位下的多幅荧光强度图像；利用多幅荧光强度图像进行数据处理，重构得到超分辨图像。本发明还公开基于全内反射结构光照明的宽场超分辨显微成像装置。本发明对入射光能量利用率高，干涉条纹对比度高，可以在低入射光功率条件下实现超过衍射极限的分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 反射 结构 照明 宽场超 分辨 显微 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基于全内反射结构光照明的宽场超分辨显微成像方法，其特征在于，包括以下步骤：1)激光光束分成两路传播方向对称且振动方向垂直的线偏振光；2)将两路线偏振光转换为两束切向线偏振光，投射到荧光样品上发生全反射并相互干涉产生条纹结构光照明图样；3)收集样品发出的荧光信号，得到荧光强度信息；4)依次旋转结构光照明图样的干涉条纹的方向，在各方向下多次改变干涉条纹的相位，得到各方向的对应相位下的多幅荧光强度图像；在步骤4)中，至少在三个角度下旋转干涉条纹的方向，在各方向下至少三次改变干涉条纹的相位；5)利用多幅荧光强度图像进行数据处理，重构得到超分辨图像。
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