[发明专利]一种基于大面积超分辨激光直写系统的图形刻写方法有效
| 申请号： | 201710150037.6 | 申请日： | 2017-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN107145038B | 公开（公告）日： | 2019-05-24 |
| 发明（设计）人： | 王闯;张浩然;刘前 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 汤财宝 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于大面积超分辨激光直写系统的图形刻写方法，通过将源图形文件进行一定角度顺时针或逆时针旋转，并沿周期性边界裁剪校正，进而输出多个已分割并编号的单帧刻写图形，用以整合扫描方向和步进方向刻写效果的差异，使得最终刻写出的大面积微纳结构在笛卡尔坐标系的X/Y方向均具有良好的均匀性，大幅度提高了光栅扫描步进式激光直写系统在多种材料上的刻写质量和成品率。通过本发明，使得利用激光直写系统进行器件制备、材料研究的成功率和精确性得到显著提升。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 大面积 分辨 激光 系统 图形 刻写 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图形刻写方法，其特征在于，包括：S1、旋转源图形文件并分割成多个可用于单帧刻写的单帧图形文件；将原图形文件逆时针或顺时针旋转，再进行边缘的剪裁和校正，并分割输出多个可用于单帧刻写的单帧图形文件；进行边缘的剪裁和校正时，针对非周期结构，根据源图形文件的原始尺寸分割；针对周期结构，将图像进行比例缩放，再进行分割；S2、将所有的单帧图形文件导入到激光直写系统中进行刻写并拼接。
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