[发明专利]一种基于大面积超分辨激光直写系统的图形刻写方法

权利要求书

1.一种图形刻写方法，其特征在于，包括：

S1、旋转源图形文件并分割成多个可用于单帧刻写的单帧图形文件；

将原图形文件逆时针或顺时针旋转，再进行边缘的剪裁和校正，并分割输出多个可用于单帧刻写的单帧图形文件；

进行边缘的剪裁和校正时，针对非周期结构，根据源图形文件的原始尺寸分割；针对周期结构，将图像进行比例缩放，再进行分割；

S2、将所有的单帧图形文件导入到激光直写系统中进行刻写并拼接。

2.根据权利要求1所述的图形刻写方法，其特征在于，所述步骤S1中，源图形文件旋转角度为-45°～45°。

3.根据权利要求1所述的图形刻写方法，其特征在于，所述步骤S1中，还包括对分割的单帧图像文件按照位置关系进行对应编号。

4.根据权利要求1所述的图形刻写方法，其特征在于，在步骤S2中，所述激光直写系统的激光脉冲为1～300mW，激光脉宽为10～20000ns。

5.根据权利要求1所述的图形刻写方法，其特征在于，所述步骤S2具体包括：以二维振镜或多面转镜为扫描模块，通过光栅扫描步进式刻写模式在刻写材料上刻写，并通过气浮式直线电机实现拼接。

6.根据权利要求5所述的图形刻写方法，其特征在于，所述刻写材料为光刻胶、金属薄膜或无极相变材料制成的，且以玻璃或硅为基底的单层或多层薄膜。