[发明专利]用于切割基本上被不透明材料包覆的晶片的方法和设备在审
| 申请号: | 201710135844.0 | 申请日: | 2017-03-08 |
| 公开(公告)号: | CN108573892A | 公开(公告)日: | 2018-09-25 |
| 发明(设计)人: | 圭多·克尼佩斯;格特·优宾客;杨见飞;陈明明;马塞尔·博埃伦 | 申请(专利权)人: | 先进科技新加坡有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/78 |
| 代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 | 代理人: | 艾晶 |
| 地址: | 新加坡2*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一种晶片切割设备,包括:定位装置,用于保持基本上被诸如模塑料的不透明材料包覆、并且具有暴露的周边区域的晶片,以及相对于包括具有视场的照相机的晶片检查系统移动所述晶片。为了执行切割道部分的可视数据采集,移动所述晶片,使得所述照相机的视场中心能够跟踪沿着所述晶片的暴露的周边区域布置的路径。处理单元用于分析获得的所述可视数据,以检测或计算所述切割道的位置和方向。晶片切割工具用于沿所述处理单元检测或计算出的切割道部分之间的直线切割所述晶片。 | ||
| 搜索关键词: | 晶片 切割道 不透明材料 处理单元 可视数据 周边区域 照相机 晶片检查系统 方法和设备 位置和方向 定位装置 晶片切割 切割设备 视场中心 直线切割 包覆的 模塑料 暴露 检测 移动 包覆 视场 种晶 切割 采集 跟踪 分析 | ||
【主权项】:
1.一种用于切割晶片的晶片切割设备,所述晶片具有基本上被不透明材料包覆的切割道,其特征在于,还具有只有部分所述切割道可见的暴露的周边区域,所述的晶片切割设备包括:晶片检查系统,包括具有视场的照相机;定位装置,用于相对地移动晶片和所述晶片检查系统,使所述照相机的视场中心能够跟踪沿着所述晶片的暴露的周边区域布置的路径,以便执行所述切割道部分的可视数据采集;处理单元,用于分析获得的所述可视数据,以检测或计算所述切割道的位置和方向;以及晶片切割工具,用于沿所述处理单元检测或计算出的切割道部分之间的直线切割所述晶片。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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