[发明专利]反应腔室

摘要

本发明提供一种反应腔室，其包括接地的腔体，在腔体内设置有下电极和内衬组件，内衬组件包括衬环，衬环包括筒体和环形部，筒体的上端与腔体连接，并通过腔体接地；环形部水平设置在筒体的下端，且环绕在所述下电极的周围，并且在环形部上设置有沿其周向环绕的多个第一筛孔。内衬组件还包括环形垫板，环形垫板叠置在环形部上，且在环形垫板上设置有多个第二筛孔，第二筛孔的数量与第一筛孔的数量相对应，且第二筛孔与第一筛孔一一对应地设置。本发明提供的反应腔室，其可以有效地将经过该筛孔的等离子体在筛孔表面泯灭，从而可以避免射频泄漏。

主权项

1.一种反应腔室，包括接地的腔体，在所述腔体内设置有下电极和内衬组件，所述内衬组件包括衬环，所述衬环包括筒体和环形部，所述筒体的上端与所述腔体连接，并通过所述腔体接地；所述环形部水平设置在所述筒体的下端，且环绕在所述下电极的周围，并且在所述环形部上设置有沿其周向环绕的多个第一筛孔，其特征在于，所述内衬组件还包括环形垫板，所述环形垫板叠置在所述环形部上，且在所述环形垫板上设置有多个第二筛孔，所述第二筛孔的数量与所述第一筛孔的数量相对应，且所述第二筛孔与所述第一筛孔一一对应地设置。