[发明专利]一种改性碳化硅氮化硼电子封装材料的制备方法在审
申请号: | 201710105503.9 | 申请日: | 2017-02-26 |
公开(公告)号: | CN106832785A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 苏州思创源博电子科技有限公司 |
主分类号: | C08L63/00 | 分类号: | C08L63/00;C08L83/07;C08L83/05;C08K13/06;C08K9/02;C08K7/10;C08K3/38 |
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地址: | 215009 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种改性碳化硅氮化硼电子封装材料的制备方法,本发明在封装材料中添加的改性碳化硅复杂形状,且具有热导率高、膨胀系数低、比刚度大、密度小等特点,使得封装材料在固化后的内应力变化值范围较小,机械性能和耐冲击性能优良;所述制备方法还在所述电子封装材料中掺杂氮化硼纳米片,使得封装材料具有良好的分散性、相容性和耐热性。 | ||
搜索关键词: | 一种 改性 碳化硅 氮化 电子 封装 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种改性碳化硅氮化硼电子封装材料的制备方法,该方法包括如下步骤:(1)制备改性碳化硅称取200‑300重量份花生壳,用去离子水洗涤3‑5次,置于115‑120℃干燥箱中干燥至恒重后,加入500‑530℃真空管式炉中,在氮气氛围下碳化2‑3h,冷却至室温,取出,将其与3‑5重量份钛酸酯类偶联剂,1‑2重量份氟化钾混合均匀,置入真空管式炉中,炉内抽至真空度为5‑10Pa后,以150‑200mL/min通入氩气,并以15℃/min升温至1150‑1300℃,再以5℃/min升温至1500‑1550℃,保持温度反应4‑6h后,自然冷却至室温,通入空气,在750‑800℃下灼烧3‑5h,冷却至室温,得碳化硅晶须;称取60‑80重量份上述碳化硅晶须,加入150‑200重量份丙酮中,并用300W超声波超声除油20‑30min,过滤,将滤渣浸泡在质量分数为25%氢氟酸溶液中8‑10h,过滤,用去离子水洗涤滤渣至洗涤液pH呈中性,转入115‑120℃真空干燥箱中干燥至恒重,得到改性碳化硅;(2)制备氮化硼纳米片将氮化硼粉末加入到DMF溶液中混合均勻,然后在 离心机中离心,去掉底部未剥离的氮化硼粉末,收集上层的混合溶液,然后去除溶剂,在真空烘箱中进行干燥,获得氮化硼纳米片;(3)按照如下重量份配料:上述改性碳化硅 10‑15份乙烯基含氢硅树脂 3‑5份上述氮化硼纳米片 3‑6份甲基纳迪克酸酐 1‑1.5份脂肪族环氧树脂 18‑20份钛酸酯类偶联剂 0.5‑1份含氢硅油交联剂 1‑3份;(4)按上述组分按比例混合均匀,加热搅拌至混合均匀,将混合物在真空脱泡机中进行脱泡,脱泡时间为5‑7h;将所述脱泡后的混合物加入到双螺杆挤出机的料斗中,螺杆转速设定为600‑800r/min,经过熔融挤出,水冷切粒得到粒料;接着,进行低温加压干燥,用注塑机注塑成型,制备得到改性碳化硅氮化硼电子封装材料。
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