[发明专利]一种磁控溅射镀膜装置在审
| 申请号： | 201710098451.7 | 申请日： | 2017-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN106906449A | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 关江敏;王长梗 | 申请（专利权）人： | 北京创世威纳科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京尚德技研知识产权代理事务所(普通合伙)11378 | 代理人： | 陈晓平 |
| 地址： | 100085 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种磁控溅射镀膜装置，其用于在真空腔室中对板状工件进行双面镀膜，其包括一个可旋转的承载盘，所述承载盘沿周向均布有多个轴线在同一圆周上的可旋转连接的工件架，所述工件架在所述承载盘下方设置有自转齿轮，所述承载盘下方还设置有可升降的调整齿条。本发明所提供的一种磁控溅射镀膜装置，可在不打开真空腔室的情况下完成对板状工件的双面镀膜，从而节约了抽真空和在真空腔室中加热的时间，大大提升了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射镀膜装置，其特征在于，其用于在真空腔室中对板状工件进行双面镀膜，其包括一个可旋转的承载盘，所述承载盘沿周向均布有多个轴线在同一圆周上的可旋转连接的工件架，所述工件架在所述承载盘下方设置有自转齿轮，所述承载盘下方还设置有可升降的调整齿条。
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