[发明专利]一种极薄柔性电子芯片封装方法及产品有效
申请号: | 201710064043.X | 申请日: | 2017-02-04 |
公开(公告)号: | CN106876286B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 吴豪;郭伟;黄鑫;冯元宵 | 申请(专利权)人: | 武汉华威科智能技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56 |
代理公司: | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 方可 |
地址: | 430074 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种极薄柔性电子芯片封装方法,包括以下步骤:(1)在硅片背面旋涂并热固化高分子层,得到柔硅片;(2)将柔硅片贴合在蓝膜上;(3)通过等离子刻蚀与机械划片完成柔硅片在蓝膜上的分离,得到柔芯片;(4)将柔芯片从蓝膜上剥离;(5)利用各向异性导电胶,通过热压完成柔芯片与系统基底的电连接。本发明实现极薄芯片在柔性电子系统中的封装,利用薄芯片增加柔性,同时又采取特殊工艺手段减少极薄硅片和芯片碎裂的可能。 | ||
搜索关键词: | 一种 柔性 电子 芯片 封装 方法 产品 | ||
【主权项】:
1.一种极薄柔性电子芯片封装方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在硅片背面旋涂并热固化高分子层,得到柔硅片,所述硅片的厚度为15~30微米,所述高分子层的厚度为20~100微米,所述高分子层采用聚酰亚胺、铂催化硅橡胶、 聚偏氟乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷中的任意一种;(2)将柔硅片贴合在蓝膜上;(3)通过等离子刻蚀与机械划片完成柔硅片在蓝膜上的分离,得到柔芯片;其中,等离子刻蚀的具体实现方式为:首先刻蚀硅片,反应离子刻蚀的气体采用六氟化硫,射频电源工作频率10~20MHz;电感耦合等离子体的功率200~400W,气压15~30Pa,气体流量30~50sccm,刻蚀时间7~13分钟;接着刻蚀高分子材料层,采用专用机床搭配多刀头钢质材料刀具,刀刃厚度为10~60微米,横向、纵向各切割一次或多次,直至所有芯片之间都被完全分割,切割深度比高分子材料层厚度大5~20微米;(4)将柔芯片从蓝膜上剥离;(5)利用各向异性导电胶,通过热压完成柔芯片与系统基底的电连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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