[发明专利]一种极薄柔性电子芯片封装方法及产品有效

专利信息
申请号: 201710064043.X 申请日: 2017-02-04
公开(公告)号: CN106876286B 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 吴豪;郭伟;黄鑫;冯元宵 申请(专利权)人: 武汉华威科智能技术有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56
代理公司: 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 代理人: 方可
地址: 430074 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种极薄柔性电子芯片封装方法,包括以下步骤:(1)在硅片背面旋涂并热固化高分子层,得到柔硅片;(2)将柔硅片贴合在蓝膜上;(3)通过等离子刻蚀与机械划片完成柔硅片在蓝膜上的分离,得到柔芯片;(4)将柔芯片从蓝膜上剥离;(5)利用各向异性导电胶,通过热压完成柔芯片与系统基底的电连接。本发明实现极薄芯片在柔性电子系统中的封装,利用薄芯片增加柔性,同时又采取特殊工艺手段减少极薄硅片和芯片碎裂的可能。
搜索关键词: 一种 柔性 电子 芯片 封装 方法 产品
【主权项】:
1.一种极薄柔性电子芯片封装方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在硅片背面旋涂并热固化高分子层,得到柔硅片,所述硅片的厚度为15~30微米,所述高分子层的厚度为20~100微米,所述高分子层采用聚酰亚胺、铂催化硅橡胶、 聚偏氟乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷中的任意一种;(2)将柔硅片贴合在蓝膜上;(3)通过等离子刻蚀与机械划片完成柔硅片在蓝膜上的分离,得到柔芯片;其中,等离子刻蚀的具体实现方式为:首先刻蚀硅片,反应离子刻蚀的气体采用六氟化硫,射频电源工作频率10~20MHz;电感耦合等离子体的功率200~400W,气压15~30Pa,气体流量30~50sccm,刻蚀时间7~13分钟;接着刻蚀高分子材料层,采用专用机床搭配多刀头钢质材料刀具,刀刃厚度为10~60微米,横向、纵向各切割一次或多次,直至所有芯片之间都被完全分割,切割深度比高分子材料层厚度大5~20微米;(4)将柔芯片从蓝膜上剥离;(5)利用各向异性导电胶,通过热压完成柔芯片与系统基底的电连接。
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