[发明专利]一种用于分析氢同位素混合气体的填充色谱柱有效

专利信息
申请号: 201710045036.5 申请日: 2017-01-22
公开(公告)号: CN106770856B 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 王伟伟;任兴碧;夏立东;陈晓华;余铭铭;李海容;陈绍华;张伟光 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
主分类号: G01N30/60 分类号: G01N30/60
代理公司: 中国工程物理研究院专利中心 51210 代理人: 翟长明;韩志英
地址: 621999 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种用于分析氢同位素混合气体的填充色谱柱,该色谱柱为管型材,管型材为金属管,金属管的内径范围为0.8 mm~1.2mm;色谱柱内填充有过渡金属改性活性三氧化二铝,过渡金属以氯化物或氧化物的形式负载于活性三氧化二铝上,过渡金属元素为3dn中n=5~10的过渡金属。本发明的填充色谱柱解决了使用常规填充柱带来的分离度差、正仲氢分裂以及液氮液面波动造成的保留时间漂移等问题。本发明的用于分析氢同位素混合气体的填充色谱柱,可以将H2、D2、T2、HD、HT、DT完全分离开,具有分离度高、重复性好、价格低廉、制备工艺简单等优点,可以实现定量分析氢同位素。
搜索关键词: 一种 用于 分析 氢同位素 混合气体 填充 色谱
【主权项】:
1.一种用于分析氢同位素混合气体的填充色谱柱,其特征在于:所述的色谱柱为管型材,管型材为金属管,金属管的内径范围为0.8 mm ~1.2mm;色谱柱内填充有过渡金属改性活性三氧化二铝,过渡金属以氯化物或氧化物的形式负载于活性三氧化二铝上,过渡金属元素为3dn中n=5~10的过渡金属。
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