[发明专利]一种SOI MOS器件的热阻提取方法有效
申请号: | 201710021085.5 | 申请日: | 2017-01-12 |
公开(公告)号: | CN106802385B | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 卜建辉;王成成;卢剑;罗家俊;韩郑生 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 房德权 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种SOI MOS器件的热阻提取方法,包括:在第一MOS器件处于非工作状态时,测试第二MOS器件在不同温度下的亚阈值斜率,获得亚阈值斜率标准数据;在第一环境温度下,测试当第一MOS器件处于工作状态时,第二MOS器件的当前亚阈值斜率;根据当前亚阈值斜率和亚阈值斜率标准数据,确定第一MOS器件的当前工作温度;根据当前工作温度与第一环境温度的差值,确定第一MOS器件的热阻。本发明提供的方法,解决了现有技术中PIV法测量热阻,存在的设备昂贵的技术问题。实现了一种简单且成本低的热阻测量方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 soimos 器件 提取 方法 | ||
【主权项】:
1.一种SOI MOS器件的热阻提取方法,其特征在于,包括:在第一MOS器件处于非工作状态时,测试第二MOS器件在不同温度下的亚阈值斜率,获得亚阈值斜率标准数据;其中,所述第一MOS器件和所述第二MOS器件之间的距离小于等于预设距离;在第一环境温度下,测试当所述第一MOS器件处于工作状态时,所述第二MOS器件的当前亚阈值斜率;并测试所述第一MOS器件处于工作状态时的功率值;根据所述当前亚阈值斜率和所述亚阈值斜率标准数据,确定所述第一MOS器件的当前工作温度;根据所述当前工作温度与所述第一环境温度的差值和所述功率值,确定所述第一MOS器件的热阻。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710021085.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电子产品测试设备
- 下一篇:一种具有叠层母排的低感测试设备