[发明专利]一种SOI MOS器件的热阻提取方法有效
申请号: | 201710021085.5 | 申请日: | 2017-01-12 |
公开(公告)号: | CN106802385B | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 卜建辉;王成成;卢剑;罗家俊;韩郑生 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 房德权 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 soimos 器件 提取 方法 | ||
1.一种SOI MOS器件的热阻提取方法,其特征在于,包括:
在第一MOS器件处于非工作状态时,测试第二MOS器件在不同温度下的亚阈值斜率,获得亚阈值斜率标准数据;其中,所述第一MOS器件和所述第二MOS器件之间的距离小于等于预设距离;
在第一环境温度下,测试当所述第一MOS器件处于工作状态时,所述第二MOS器件的当前亚阈值斜率;并测试所述第一MOS器件处于工作状态时的功率值;
根据所述当前亚阈值斜率和所述亚阈值斜率标准数据,确定所述第一MOS器件的当前工作温度;
根据所述当前工作温度与所述第一环境温度的差值和所述功率值,确定所述第一MOS器件的热阻。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一MOS器件和所述第二MOS器件之间的距离为设计规则要求的最小值。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一MOS器件处于非工作状态,包括:
所述第一MOS器件的栅端和漏端均悬空。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一MOS器件处于工作状态,包括:
所述第一MOS器件的栅端和漏端均加上电源电压。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第二MOS器件的沟道宽度为设计规则要求的最小值。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一MOS器件的沟道宽度与所述第二MOS器件的沟道宽度的比值大于10。
7.如权利要求1-6任一所述的方法,其特征在于:
所述确定所述第一MOS器件的热阻之前,还包括:在所述第一环境温度下,测试所述第一MOS器件处于工作状态时的功率值;
所述根据所述当前工作温度与所述第一环境温度的差值,确定所述第一MOS器件的热阻,包括:
所述第一MOS器件的热阻等于所述差值除以所述功率值。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述确定所述第一MOS器件的热阻之后,还包括:
将所述热阻乘以所述第一MOS器件的沟道宽度,以归一化处理获得归一化热阻参数。
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