[发明专利]一种SOI MOS器件的热阻提取方法有效

专利信息
申请号: 201710021085.5 申请日: 2017-01-12
公开(公告)号: CN106802385B 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 卜建辉;王成成;卢剑;罗家俊;韩郑生 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 房德权
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 soimos 器件 提取 方法
【权利要求书】:

1.一种SOI MOS器件的热阻提取方法,其特征在于,包括:

在第一MOS器件处于非工作状态时,测试第二MOS器件在不同温度下的亚阈值斜率,获得亚阈值斜率标准数据;其中,所述第一MOS器件和所述第二MOS器件之间的距离小于等于预设距离;

在第一环境温度下,测试当所述第一MOS器件处于工作状态时,所述第二MOS器件的当前亚阈值斜率;并测试所述第一MOS器件处于工作状态时的功率值;

根据所述当前亚阈值斜率和所述亚阈值斜率标准数据,确定所述第一MOS器件的当前工作温度;

根据所述当前工作温度与所述第一环境温度的差值和所述功率值,确定所述第一MOS器件的热阻。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一MOS器件和所述第二MOS器件之间的距离为设计规则要求的最小值。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一MOS器件处于非工作状态,包括:

所述第一MOS器件的栅端和漏端均悬空。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一MOS器件处于工作状态,包括:

所述第一MOS器件的栅端和漏端均加上电源电压。

5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第二MOS器件的沟道宽度为设计规则要求的最小值。

6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一MOS器件的沟道宽度与所述第二MOS器件的沟道宽度的比值大于10。

7.如权利要求1-6任一所述的方法,其特征在于:

所述确定所述第一MOS器件的热阻之前,还包括:在所述第一环境温度下,测试所述第一MOS器件处于工作状态时的功率值;

所述根据所述当前工作温度与所述第一环境温度的差值,确定所述第一MOS器件的热阻,包括:

所述第一MOS器件的热阻等于所述差值除以所述功率值。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述确定所述第一MOS器件的热阻之后,还包括:

将所述热阻乘以所述第一MOS器件的沟道宽度,以归一化处理获得归一化热阻参数。

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