[发明专利]一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置在审
| 申请号： | 201710002000.9 | 申请日： | 2017-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN106783747A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 卢彦春;周纪登 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/84 | 分类号： | H01L21/84;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 姜春咸,陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基本的制作方法，其中，所述制作方法包括提供衬底，所述衬底包括透明基板、形成在所述透明基板上的数据电极图形层以及覆盖所述数据电极图形层的绝缘层，所述数据电极图形层包括多个数据电极；形成贯穿所述绝缘层的过孔，以暴露出部分所述数据电极；形成透明电极材料层；形成透明电极层，所述透明电极层包括透明电极和与所述透明电极相连的连接部，所述连接部位于所述过孔中，以将所述透明电极与相应的所述数据电极电连接，所述连接部上方设置有填充物。本发明还公开了一种阵列基板及显示装置。本发明公开的阵列基板的制作方法减轻了与过孔对应的连接部位置对取向膜的吸附作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：提供衬底，所述衬底包括透明基板、形成在所述透明基板上的数据电极图形层以及覆盖所述数据电极图形层的绝缘层，所述数据电极图形层包括多个数据电极；形成贯穿所述绝缘层的过孔，以暴露出部分所述数据电极；形成透明电极材料层；形成透明电极层，所述透明电极层包括透明电极和与所述透明电极相连的连接部，所述连接部位于所述过孔中，以将所述透明电极与相应的所述数据电极电连接，所述连接部上方设置有填充物。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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