[发明专利]光栅及其制造方法、显示装置及其控制方法有效
| 申请号： | 201710001816.X | 申请日： | 2017-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN106772735B | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 孙含嫣;刘建涛;许晓春;王俊伟;陈维涛;朴仁镐 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B27/22 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光栅及其制造方法、显示装置及其控制方法，属于显示技术领域。该光栅包括：第一透明电极层；第一透明电极层上设置有阵列排布的多个光栅结构，每个光栅结构包括透过率变化膜和设置在透过率变化膜相对的两端且分别与两端连接的两个电致伸缩块；设置在第一透明电极层上的每个光栅结构上设置有第二透明电极。本发明通过设置的第一透明电极层和光栅结构上的第二透明电极，能够向透过率变化膜两端的电致伸缩块施加电压，电致伸缩块在电压的作用下会产生形变，使透过率变化膜透明或不透明，这样就能够在光栅上需要的位置形成透明的狭缝，解决了相关技术的光栅中狭缝的位置固定，难以调整的问题。达到了能够调整光栅中狭缝位置的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 及其 制造 方法 显示装置 控制 | ||
【主权项】：
1.一种光栅，其特征在于，所述光栅包括：第一透明电极层；所述第一透明电极层上设置有阵列排布的多个光栅结构，每个所述光栅结构包括透过率变化膜和设置在所述透过率变化膜相对的两端且分别与所述两端连接的两个电致伸缩块，所述透过率变化膜的透过率与所述透过率变化膜形变的程度相关，所述透过率变化膜的材料包括聚二甲基硅氧烷PDMS；设置在所述第一透明电极层上的每个所述光栅结构上设置有第二透明电极，所述多个光栅结构中任一光栅结构上的第二透明电极与所述任一光栅结构中的两个电致伸缩块接触。
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