[发明专利]光栅及其制造方法、显示装置及其控制方法

权利要求书

1.一种光栅，其特征在于，所述光栅包括：

第一透明电极层；

所述第一透明电极层上设置有阵列排布的多个光栅结构，每个所述光栅结构包括透过率变化膜和设置在所述透过率变化膜相对的两端且分别与所述两端连接的两个电致伸缩块，所述透过率变化膜的透过率与所述透过率变化膜形变的程度相关，所述透过率变化膜的材料包括聚二甲基硅氧烷PDMS；

设置在所述第一透明电极层上的每个所述光栅结构上设置有第二透明电极，所述多个光栅结构中任一光栅结构上的第二透明电极与所述任一光栅结构中的两个电致伸缩块接触。

2.根据权利要求1所述的光栅，其特征在于，所述透过率变化膜的透过率与所述透过率变化膜被拉伸的程度正相关，所述透过率变化膜的材料包括有色的聚二甲基硅氧烷PDMS。

3.根据权利要求1所述的光栅，其特征在于，所述电致伸缩块的材料包括掺杂钛酸钡的聚氨酯弹性体。

4.根据权利要求1至3任一所述的光栅，其特征在于，所述第一透明电极层和每个所述第二透明电极的材料包括氧化铟锡ITO。

5.一种光栅的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底基板上形成第一透明电极层；

在形成有所述第一透明电极层的衬底基板上形成阵列排布的多个光栅结构，每个所述光栅结构包括透过率变化膜和设置在所述透过率变化膜相对的两端且分别与所述两端连接的两个电致伸缩块，所述透过率变化膜的透过率与所述透过率变化膜形变的程度相关，所述透过率变化膜的材料包括聚二甲基硅氧烷PDMS；

在形成有所述多个光栅结构的衬底基板上的每个所述光栅结构上形成第二透明电极，所述多个光栅结构中的任一光栅结构上的第二透明电极与所述任一光栅结构中的两个电致伸缩块接触。

6.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：显示面板和光栅，

所述光栅包括：第一透明电极层，所述第一透明电极层上设置有阵列排布的多个光栅结构，每个所述光栅结构包括透过率变化膜和设置在所述透过率变化膜相对的两端且分别与所述两端连接的两个电致伸缩块，所述透过率变化膜的透过率与所述透过率变化膜形变的程度相关，设置在所述第一透明电极层上的每个所述光栅结构上设置有第二透明电极，所述多个光栅结构中的任一光栅结构上的第二透明电极与所述任一光栅结构中的两个电致伸缩块接触，所述透过率变化膜的材料包括聚二甲基硅氧烷PDMS。

7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括背光模组，

所述光栅设置在所述背光模组和所述显示面板之间。

8.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述光栅设置在所述显示面板的出光侧。

9.一种显示装置的控制方法，其特征在于，用于控制权利要求6至8任一所述的显示装置，通过控制施加给所述任一光栅结构中电致伸缩块的电压，能够控制所述任一光栅结构中透过率变化膜的透过率，使所述透过率变化膜变为透明状态或不透明状态，所述透过率变化膜的材料包括聚二甲基硅氧烷PDMS，所述方法包括：

获取控制指令；

在所述控制指令指示进行三维显示时，控制所述光栅形成多个狭缝状区域，所述狭缝状区域的光栅结构的透过率变化膜为透明状态，所述光栅除所述狭缝状区域的其他区域的光栅结构的透过率变化膜为不透明状态。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在所述控制指令指示进行二维显示时，控制每个所述光栅结构的透过率变化膜变为透明状态。