[发明专利]适应性对准方法及系统有效
| 申请号： | 201680073070.7 | 申请日： | 2016-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN108369920B | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | B·A·里格斯;W·皮尔逊 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/68 | 分类号： | H01L21/68;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示适应性对准方法及系统。一种适应性对准系统可包含经配置以对准晶片的扫描器及与所述扫描器通信的分析器。所述分析器可经配置以：辨识至少一个界定分析区域；确定所述分析区域内是否存在任何扰动；及响应于确定至少一个扰动在所述分析区域内而调用后降对准策略或向所述扫描器报告所述至少一个扰动。 | ||
| 搜索关键词： | 适应性 对准 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种系统，其包括：扫描器，其经配置以对准晶片；及分析器，其与所述扫描器通信，所述分析器经配置以：辨识至少一个界定分析区域；确定所述分析区域内是否存在任何扰动；及响应于确定至少一个扰动在所述分析区域内而调用退守对准策略或向所述扫描器报告所述至少一个扰动。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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