[发明专利]用于介电阻挡的等离子处理的电极装置有效

专利信息
申请号: 201680060536.X 申请日: 2016-09-26
公开(公告)号: CN108141947B 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: L·特鲁特威格;M·哈恩尔;K-O·施托克;D·万德克;M·科普 申请(专利权)人: 奇诺格有限责任公司
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24;A61L2/14
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 郭毅
地址: 德国杜*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种电极装置,其用于对电导体的用作对电极的表面进行介电阻挡的等离子处理,所述电极装置具有柔性的面式的电极(1)和由面式的柔性的材料构成的电介质(2),所述电介质以阻挡直接电流流动的层(3)屏蔽所述待处理表面的电极(1),其中,电介质(2)通过具有一些突出部的结构可以平放在待处理表面上,并且在此在所述突出部之间构造用于形成等离子体的空气空间,由此改善可制造能力,所述结构是由彼此邻接的壁(7,8)构成的格栅结构(6),这些壁限界大量的构成所述空气空间的腔室(9),并且所述腔室(9)具有由所述电介质(2)的阻挡直接电流流动的层(3)形成的底侧封闭部和朝向进行处理的表面的开放侧,所述侧在待处理表面处的贴靠面由所述格栅结构(6)的壁(7,8)的末端棱边(10)构成。
搜索关键词: 用于 阻挡 等离子 处理 电极 装置
【主权项】:
一种电极装置,其用于对电导体的用作对电极的表面进行介电阻挡的等离子处理,所述电极装置具有柔性的面式的电极(1)和由面式的柔性的材料构成的电介质(2),所述电介质以阻挡直接电流流动的层(3)遮蔽所述电极(1),使其免受待处理表面影响,其中,所述电介质(2)通过具有一些突出部的结构能够平放在待处理表面上并且在此在所述突出部之间构造有用于形成等离子体的空气空间,其特征在于,所述结构是由彼此邻接的壁(7,8)构成的格栅结构(6),这些壁限界大量的构成所述空气空间的腔室(9),并且所述腔室(9)具有由所述电介质(2)的阻挡直接电流流动的层(3)形成的底侧封闭部和朝向进行处理的表面的开放侧,所述开放侧的在待处理表面处的贴靠面由所述格栅结构(6)的壁(7,8)的末端棱边(10)构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奇诺格有限责任公司,未经奇诺格有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680060536.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top