[发明专利]含有含长链烷基的酚醛清漆的抗蚀剂下层膜形成用组合物有效

专利信息
申请号: 201680060001.2 申请日: 2016-10-14
公开(公告)号: CN108139674B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 齐藤大悟;远藤贵文;柄泽凉;坂本力丸 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11;C08G8/10;C08G12/08;G03F7/26
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 曾祯;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题是提供用于通过提高聚合物的热回流性而改善烧成时对图案的填充性、从而在基板上形成平坦化性高的涂膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。作为本发明的解决问题的方法,涉及:抗蚀剂下层膜形成用组合物,包含芳香族化合物(A)与具有结合于碳原子数2~26的烷基的仲碳原子或叔碳原子的甲酰基的醛(B)反应而得的酚醛清漆树脂。酚醛清漆树脂包含下述式(1)所示的结构单元。(式(1)中,A表示由碳原子数6~40的芳香族化合物衍生的二价基团,b1表示碳原子数1~16的烷基,b2表示氢原子或碳原子数1~9的烷基)。A是由包含氨基、羟基、或这两者的芳香族化合物衍生的二价基团。用于半导体的制造的抗蚀剂图案的形成方法,包含将抗蚀剂下层膜形成用组合物涂布在半导体基板上然后烧成从而形成下层膜的工序。
搜索关键词: 含有 含长链 烷基 酚醛 清漆 抗蚀剂 下层 形成 组合
【主权项】:
抗蚀剂下层膜形成用组合物,包含由芳香族化合物(A)与醛(B)反应而得的酚醛清漆树脂,所述醛(B)具有结合于碳原子数2~26的烷基的仲碳原子或叔碳原子的甲酰基。
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