[发明专利]用于等离子体反应器的远程等离子体与电子束生成系统有效
申请号: | 201680051912.9 | 申请日: | 2016-08-02 |
公开(公告)号: | CN108028163B | 公开(公告)日: | 2020-03-03 |
发明(设计)人: | R·丁德萨 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 金红莲;侯颖媖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供装置的实施例,所述装置具有改良的线圈天线组件,所述改良的线圈天线组件有远程等离子体源与电子束生成系统,可在处理腔室提供增强的等离子体。一个实施例中,一种等离子体处理腔室包括:腔室主体、盖、衬底支撑件、双电感耦合源、以及远程等离子体源,所述盖围住所述腔室主体的内部空间,所述衬底支撑件配置在所述内部空间中,所述双电感耦合源包括通过所述盖耦接所述腔室主体的线圈天线组件,而所述远程等离子体源通过所述盖耦接所述腔室主体。 | ||
搜索关键词: | 用于 等离子体 反应器 远程 电子束 生成 系统 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体处理腔室,包括:腔室主体;盖,所述盖围住所述腔室主体的内部空间;衬底支撑件,所述衬底支撑件设置在所述内部空间中;双电感耦合源,所述双电感耦合源包括通过所述盖耦接至所述腔室主体的线圈天线组件;以及远程等离子体源,所述远程等离子体源通过所述盖耦接至所述腔室主体。
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