[发明专利]注射成型设备和其控制方法在审
申请号: | 201680044166.0 | 申请日: | 2016-08-24 |
公开(公告)号: | CN107848176A | 公开(公告)日: | 2018-03-27 |
发明(设计)人: | G·M·艾尔托宁;B·M·伯恩斯 | 申请(专利权)人: | 艾姆弗勒克斯有限公司 |
主分类号: | B29C45/77 | 分类号: | B29C45/77 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 丁晓峰 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种控制注射成型设备的熔体压力的方法。所述方法包含建立具有多个设定点的熔体压力曲线。 | ||
搜索关键词: | 注射 成型 设备 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种控制注射成型设备的熔体压力的方法,所述方法包括:接收熔体压力曲线,所述熔体压力曲线包括多个设定点,所述设定点各自界定所述注射成型设备的期望熔体压力,所述熔体压力曲线在所述设定点之间延伸,且各设定点通过界定注射成型工艺的至少一部分的时间段与其它设定点分隔,在所述时间段期间,热塑性材料注射至模穴中;在位于所述设定点之间的一或多个时间间隔下测定所述熔体压力曲线,其中所述一或多个时间间隔及所述设定点中的每一个通过时间分隔,且其中所述一或多个时间间隔中的每一个界定所述注射成型设备的期望熔体压力;及在所述一或多个时间间隔中的每一个下,基于由在所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述熔体压力曲线所界定的所述期望熔体压力来控制所述注射成型设备;其中,对于至少两个紧邻设定点,位于所述设定点之间的所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述期望熔体压力与处于所述至少两个紧邻设定点中的每一个处的所述期望熔体压力不同。
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