[发明专利]注射成型设备和其控制方法

权利要求书

1.一种控制注射成型设备的熔体压力的方法，所述方法包括：

接收熔体压力曲线，所述熔体压力曲线包括多个设定点，所述设定点各自界定所述注射成型设备的期望熔体压力，所述熔体压力曲线在所述设定点之间延伸，且各设定点通过界定注射成型工艺的至少一部分的时间段与其它设定点分隔，在所述时间段期间，热塑性材料注射至模穴中；

在位于所述设定点之间的一或多个时间间隔下测定所述熔体压力曲线，其中所述一或多个时间间隔及所述设定点中的每一个通过时间分隔，且其中所述一或多个时间间隔中的每一个界定所述注射成型设备的期望熔体压力；及

在所述一或多个时间间隔中的每一个下，基于由在所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述熔体压力曲线所界定的所述期望熔体压力来控制所述注射成型设备；

其中，对于至少两个紧邻设定点，位于所述设定点之间的所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述期望熔体压力与处于所述至少两个紧邻设定点中的每一个处的所述期望熔体压力不同。

2.根据权利要求1所述的方法，其中对于至少两个其它紧邻设定点，在所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述期望熔体压力与处于所述至少两个其它紧邻设定点处的所述期望熔体压力实质上相同。

3.根据权利要求1所述的方法，其中对于在所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述期望熔体压力与处于所述至少两个紧邻设定点中的每一个处的所述期望熔体压力不同的所述至少两个紧邻设定点，所述熔体压力曲线为实质上线性的。

4.根据权利要求2所述的方法，其中对于在所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述期望熔体压力与处于所述至少两个其它紧邻设定点处的所述期望熔体压力实质上相同的所述至少两个其它紧邻设定点，所述熔体压力曲线为实质上线性的。

5.根据权利要求1所述的方法，其中对于在所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述期望熔体压力与处于所述至少两个紧邻设定点处的所述期望熔体压力不同的所述至少两个紧邻设定点，所述时间段为约10毫秒。

6.根据权利要求5所述的方法，其中沿所述时间段的各时间间隔的取样约每毫秒进行一次。

7.根据权利要求1所述的方法，其中基于所述期望熔体压力控制所述注射成型设备进一步包括：

接收来自压力传感器的实测熔体压力值，所述压力传感器与所述注射成型设备的热机筒相关联且经配置以量测所述热机筒的熔体压力；

对所述热机筒的所述实测熔体压力与在所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述期望熔体压力进行比较；及

若所述实测熔体压力与在所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述期望熔体压力之间存在偏差，则调整所述热机筒的所述实测熔体压力以使得所述实测熔体压力朝向所述期望熔体压力会聚。

8.根据权利要求7所述的方法，其中调整所述热机筒的所述实测熔体压力包括控制安置于所述热机筒内部的往复式螺杆。

9.根据权利要求8所述的方法，其中控制所述往复式螺杆包括控制与所述往复式螺杆相关联的液压阀。

10.根据权利要求7所述的方法，其中调整所述热机筒的所述实测熔体压力包括控制安置于所述热机筒内部的柱塞。

11.根据权利要求1所述的方法，其中测定所述熔体压力曲线包括对数据表进行取样，所述数据表界定在所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述期望熔体压力。

12.根据权利要求1所述的方法，其中测定所述熔体压力曲线包括使用算法计算在所述一或多个时间间隔中的每一个下的所述期望熔体压力。

13.根据权利要求1所述的方法，对于至少两个紧邻设定点，多个时间间隔位于所述设定点之间，且在所述设定点之间的各时间间隔下的所述期望熔体压力与处于所述设定点之间的各紧邻时间间隔下的所述期望熔体压力不同。

14.根据权利要求1所述的方法，对于至少两个紧邻设定点，多个时间间隔位于所述设定点之间，且在所述设定点之间的各个连续时间间隔下的所述期望熔体压力与处于所述设定点之间的各紧邻时间间隔下的所述期望熔体压力不同。