[发明专利]辐射源的射束分布的优化在审
| 申请号： | 201680039909.5 | 申请日： | 2016-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN107735711A | 公开（公告）日： | 2018-02-23 |
| 发明（设计）人： | P·戈尔德;J·迪特里希;C·吕特;M·派尔;S·迈尔;E·布雷加;M·霍夫曼;J·施特劳斯 | 申请（专利权）人： | 贺利氏特种光源有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/02 | 分类号： | G02B7/02;G02B19/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 金林辉,吴鹏 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种辐射源(10)，其包括a.发光器件(12)；b.第一光学元件(14)；c.传感器(15，16，17)，其中，传感器(15，16，17)被如此地设计并且这样地与第一光学元件(14)连接，使得借助于传感器(15，16，17)可以确定第一光学元件(14)的参数在时间上的变化，其中，该参数影响辐射源(10)的光学特性。此外，描述了一种用于在提供根据本发明的辐射源(10)的条件下制造产品的方法以及辐射源(10)的用于提高由反应物向产品的转化或状态改变的效率的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 分布 优化 | ||
【主权项】：
一种辐射源(10)，包括：a.发光器件(12)；b.第一光学元件(14)；c.传感器(15，16，17)，其中，传感器(15，16，17)被设计成以及与第一光学元件(14)连接成，使得借助于传感器(15，16，17)能确定第一光学元件(14)的参数在时间上的变化，其中，该参数影响辐射源(10)的光学特性。
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