[发明专利]辐射源的射束分布的优化在审
| 申请号: | 201680039909.5 | 申请日: | 2016-06-07 |
| 公开(公告)号: | CN107735711A | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
| 发明(设计)人: | P·戈尔德;J·迪特里希;C·吕特;M·派尔;S·迈尔;E·布雷加;M·霍夫曼;J·施特劳斯 | 申请(专利权)人: | 贺利氏特种光源有限公司 |
| 主分类号: | G02B7/02 | 分类号: | G02B7/02;G02B19/00 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 金林辉,吴鹏 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 辐射源 分布 优化 | ||
1.一种辐射源(10),包括:
a.发光器件(12);
b.第一光学元件(14);
c.传感器(15,16,17),
其中,传感器(15,16,17)被设计成以及与第一光学元件(14)连接成,使得借助于传感器(15,16,17)能确定第一光学元件(14)的参数在时间上的变化,其中,该参数影响辐射源(10)的光学特性。
2.根据权利要求1所述的辐射源(10),其中,所述第一光学元件(14)包括支架(18),其中,所述传感器(15,16,17)通过所述支架(18)与所述第一光学元件(14)连接。
3.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(10),其中,所述支架(18)沿着周线(28)在所述周线(28)的至少50%上围住所述第一光学元件(14)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(10),其中,支架(18)包含支架(18)总重量的至少50重量%的金属、陶瓷、金属陶瓷、聚合物或其中至少两种的组合。
5.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(10),其中,所述传感器(15,16,17)选自于以下组,该组包括:温度传感器、应变传感器、光学传感器、电容传感器、电感传感器或其中至少两种的组合。
6.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(10),其中,所述传感器(15,16,17)以如下方式与所述第一光学元件(14)连接,即:使得小于20%的由所述发光器件(12)发出的辐射落到传感器(15,16,17)上。
7.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(10),其中,所述辐射源(10)包含在从1到100个的范围中的数量的传感器(15,16,17)。
8.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(10),其中,传感器(15,16,17)被布置在第一光学元件(14)的边缘上。
9.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(10),其中,所述传感器(15,16,17)至少包围所述第一光学元件(14)的与发光器件(12)的主发射方向(25)垂直的面。
10.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(10),其中,所述传感器(15,16,17)沿着所述第一光学元件(14)的周线(28)包围所述第一光学元件(14)。
11.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(10),其中,所述传感器(15,16,17)的长度至少相当于所述第一光学元件(14)的最大外周的长度。
12.根据前述权利要求中任一项所述的辐射源(10),其中,所述辐射源(10)包含另外的光学元件(20)。
13.一种用于制造产品(60)的方法,包括以下步骤:
i.提供反应物(40);
ii.提供根据权利要求1至19中任一项所述的辐射源(10)(50);
iii.用发光器件(12)照射反应物(40)以获得产品(60)。
14.传感器(15,16,17)的用于使根据权利要求1至12中任一项所述的辐射源(10)的辐射分布均匀化的应用。
15.根据权利要求1至12中任一项所述的辐射源(10)的用于提高从反应物(40)向产品(60)的转化或状态改变的效率的应用。
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