[发明专利]使用对源辐射的角分布的多次采样的光刻术模拟有效
| 申请号： | 201680031497.0 | 申请日： | 2016-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN107667315B | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 段福·史蒂芬·苏;拉斐尔·C·豪厄尔;贾建军 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种计算机实施的方法，该方法包括：确定通过光刻投影设备由沿着第一组一个或更多个方向传播的第一辐射部分所形成的第一分图像；确定通过光刻投影设备由沿着第二组一个或更多个方向传播的第二辐射部分所形成的第二分图像；通过以非相干的方式将第一分图像和第二分图像相加来确定一图像；其中第一组一个或更多个方向和第二组一个或更多个方向是不同的。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 辐射 角分布 多次 采样 光刻 模拟 | ||
【主权项】：
一种计算机实施的方法，包括：确定由来自光刻投影设备的照射源的、沿着第一组一个或更多个方向传播并且照射到图案形成装置上的第一辐射部分所形成的第一分图像，所述第一分图像由光刻投影设备形成；确定由来自光刻投影设备的照射源的、沿着第二组一个或更多个方向传播并且照射到所述图案形成装置上的第二辐射部分所形成的第二分图像，所述第二分图像由光刻投影设备形成；和由计算机模拟通过将第一分图像和第二分图像相加来确定一图像，其中所述一个或更多个方向的第一组和所述一个或更多个方向的第二组是不同的。
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