[发明专利]使用对源辐射的角分布的多次采样的光刻术模拟有效
申请号: | 201680031497.0 | 申请日: | 2016-05-13 |
公开(公告)号: | CN107667315B | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 段福·史蒂芬·苏;拉斐尔·C·豪厄尔;贾建军 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 辐射 角分布 多次 采样 光刻 模拟 | ||
1.一种计算机实施的用于优化照射源的方法,包括:
确定由来自光刻投影设备的照射源的、沿着第一组一个或更多个方向传播并且照射到图案形成装置上的第一辐射部分所形成的第一分图像,所述第一分图像由光刻投影设备形成;
确定由来自光刻投影设备的照射源的、沿着第二组一个或更多个方向传播并且照射到所述图案形成装置上的第二辐射部分所形成的第二分图像,所述第二分图像由光刻投影设备形成;和
由计算机模拟通过将第一分图像和第二分图像相加来确定一图像,
其中所述一个或更多个方向的第一组和所述一个或更多个方向的第二组是不同的。
2.根据权利要求1所述的方法,其中第一组一个或更多个方向和第二组一个或更多个方向不包括相同的方向。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述图像是掩模透射图像,或所述图像是空间图像。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一辐射部分和第二辐射部分来自所述光刻投影设备的源,并且所述源是离散源或连续源。
5.根据权利要求1所述的方法,还包括从所述光刻投影设备的源的光瞳的连续区域选择第一组一个或更多个方向。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一分图像和所述第二分图像由图案形成装置形成。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述图案形成装置是反射式图案形成装置,或所述图案形成装置是透射式图案形成装置。
8.根据权利要求6所述的方法,其中所述第一辐射部分和所述第二辐射部分相对于所述图案形成装置是倾斜的。
9.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一分图像和第二分图像至少部分地由衬底上的抗蚀剂层下方的结构形成。
10.根据权利要求1所述的方法,还包括基于所述图像调整图案形成装置的参数,和/或基于所述图像调整所述光刻投影设备的参数。
11.根据权利要求1所述的方法,其中通过以非相干方式相加所述第一分图像和第二分图像来确定所述图像。
12.一种计算机实施的用于优化图案形成装置的设计布局的方法,包括:
在数据库中检索设计布局中的图案的分图像,所述分图像由沿着一组一个或更多个方向传播的辐射部分形成;和
在数据库中找到所述图案的所述分图像的情况下,至少由所述图案的所述分图像构造所述设计布局的分图像,所述设计布局的分图像由所述辐射部分形成。
13.一种计算机实施的用于优化图案形成装置的设计布局的方法,包括:
在数据库中检索针对沿着一组一个或更多个方向传播的辐射部分的、用于设计布局中的图案的透射函数;和
在数据库中找到所述透射函数的情况下,通过使用所找到的透射函数来构造所述图案的分图像。
14.根据权利要求13所述的方法,还包括通过使用所述图案的分图像来构造所述设计布局的分图像。
15.一种计算机可读介质,所述计算机可读介质上记录有指令,所述指令在被计算机执行时实施根据权利要求1所述的方法。
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