[发明专利]化合物、树脂、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜、图案形成方法以及化合物或树脂的纯化方法在审
| 申请号： | 201680025648.1 | 申请日： | 2016-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN107531597A | 公开（公告）日： | 2018-01-02 |
| 发明（设计）人： | 堀内淳矢;越后雅敏;牧野嶋高史 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C39/15 | 分类号： | C07C39/15;C07C37/20;C07C37/72;C08G8/04;C08G8/20;G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种如下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R1各自独立地为碳数1～30的2价基团，R2～R7各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、巯基或羟基，在此，R5中的至少1个为羟基或巯基，m2、m3和m6各自独立地为0～9的整数，m4和m7各自独立地为0～8的整数，m5为1～9的整数，n为1～4的整数，p2～p7各自独立地为0～2的整数。) | ||
| 搜索关键词： | 化合物 树脂 光刻 下层 形成 材料 图案 方法 以及 纯化 | ||
【主权项】：
一种化合物，其如下述式(1)所示，式(1)中，R1各自独立地为碳数1～30的2价基团，R2～R7各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、巯基或羟基，在此，R5中的至少1个为羟基或巯基，m2、m3和m6各自独立地为0～9的整数，m4和m7各自独立地为0～8的整数，m5为1～9的整数，n为1～4的整数，p2～p7各自独立地为0～2的整数。
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