[发明专利]化合物、树脂、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜、图案形成方法以及化合物或树脂的纯化方法

权利要求书

1.一种化合物，其如下述式(1)所示，

式(1)中，R¹各自独立地为碳数1～30的2价基团，R²～R⁷各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、巯基或羟基，在此，R⁵中的至少1个为羟基或巯基，m²、m³和m⁶各自独立地为0～9的整数，m⁴和m⁷各自独立地为0～8的整数，m⁵为1～9的整数，n为1～4的整数，p²～p⁷各自独立地为0～2的整数。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述R⁶中的至少1个为羟基或巯基。

3.根据权利要求1或2所述的化合物，其中，所述R²中的至少1个和/或所述R³中的至少1个为羟基和/或巯基。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的化合物，其中，所述式(1)所示的化合物为下述式(1a)所示的化合物，

式(1a)中，R¹～R⁷和n与所述式(1)所说明的含义相同，m^2’、m^3’和m^6’各自独立地为0～5的整数，m^4’和m^7’各自独立地为0～4的整数，m^5’为1～5的整数。

5.根据权利要求4所述的化合物，其中，所述式(1a)所示的化合物为下述式(1b)所示的化合物，

式(1b)中，R¹、R²～R⁴、R⁷和n与所述式(1)所说明的含义相同，m^2’、m^3’、m^4’、和m^7’与所述式(1a)所说明的含义相同。

6.根据权利要求5所述的化合物，其中，所述式(1b)所示的化合物为下述式(1c)所示的化合物，

式(1c)中，R¹、R⁴、R⁷和n与所述式(1)所说明的含义相同，m^4’和m^7’与所述式(1a)所说明的含义相同。

7.根据权利要求6所述的化合物，其中，所述式(1c)所示的化合物为下述式(1d)所示的化合物，

式(1d)中，R¹、R⁴和R⁷与所述式(1)所说明的含义相同，m^4’和m^7’与所述式(1a)所说明的含义相同。

8.根据权利要求7所述的化合物，其中，所述式(1d)所示的化合物为下述式(1e)所示的化合物，

式(1e)中，R⁴和R⁷与所述式(1)所说明的含义相同，R⁸为碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基或碳数2～10的烯基，m^4’和m^7’与所述式(1a)所说明的含义相同。

9.根据权利要求8所述的化合物，其如下述式(1f)所示，

10.一种树脂，其是将权利要求1～9中任一项所述的化合物作为单体而得到的。

11.根据权利要求10所述的树脂，其是使权利要求1～9中任一项所述的化合物与具有交联反应性的化合物反应而得到的。

12.根据权利要求11所述的树脂，其中，所述具有交联反应性的化合物为选自由醛、酮、羧酸、羧酰卤化物、含卤素化合物、氨基化合物、亚氨基化合物、异氰酸酯和含不饱和烃基化合物组成的组中的1种以上。