[发明专利]用于测试光学器件性能的系统和测试光学装置的方法有效
| 申请号： | 201680019646.1 | 申请日： | 2016-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN107532967B | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 冯大增;梁宏 | 申请（专利权）人： | 迈络思科技硅光股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/00 | 分类号： | G01M11/00;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 卢静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种晶片，其包括多个光学器件。其中一个器件包括在测试端口中的刻面处终止的波导管。光通过刻面从光源注入到波导管中，而不会在从光源射出和进入刻面之间进行反射。在将光注入到波导管中之后，器件与晶片分离。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测试 光学 器件 性能 系统 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种系统，包括：晶片上的多个光学器件，其中所述器件中的一个包括终止于刻面的波导管，所述刻面包括在测试端口中，在晶片外部的光源，所述光源以大于或等于1°且小于或等于40°的角度产生从光源直射到刻面的光，其中在光从光源射出的方向与刻面处波导管的纵向轴线之间测量角度。
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