[发明专利]光稳定剂母料及其制造方法有效
| 申请号： | 201680019353.3 | 申请日： | 2016-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN107428954B | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 绫部敬士;臼井崇 | 申请（专利权）人： | 株式会社ADEKA |
| 主分类号： | C08J3/22 | 分类号： | C08J3/22;C08K3/36;C08K5/17;C08L23/00;C08L101/00 |
| 代理公司： | 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光稳定剂母料及其制造方法，所述光稳定剂母料改善了由于受到环境的温度变化而因时间的推移发生结块、凝固成块状从而使操作变得困难的问题。一种光稳定剂母料，其是如下制成的：相对于(A)利用湿式法制造的二氧化硅100质量份，加入(B)由下述通式(1)表示的受阻胺化合物80～300质量份并进行混合，然后进一步加入(C)利用干式法制造的二氧化硅5～50质量份并进行混合。(式(1)中，R | ||
| 搜索关键词： | 稳定剂 料及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光稳定剂母料，其特征在于，其是如下制成的：相对于(A)利用湿式法制造的二氧化硅100质量份，加入(B)由下述通式(1)表示的受阻胺化合物80～300质量份并进行混合，然后进一步加入(C)利用干式法制造的二氧化硅5～50质量份并进行混合，/n
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