[发明专利]光稳定剂母料及其制造方法有效
| 申请号: | 201680019353.3 | 申请日: | 2016-03-30 |
| 公开(公告)号: | CN107428954B | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
| 发明(设计)人: | 绫部敬士;臼井崇 | 申请(专利权)人: | 株式会社ADEKA |
| 主分类号: | C08J3/22 | 分类号: | C08J3/22;C08K3/36;C08K5/17;C08L23/00;C08L101/00 |
| 代理公司: | 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 稳定剂 料及 制造 方法 | ||
本发明提供一种光稳定剂母料及其制造方法,所述光稳定剂母料改善了由于受到环境的温度变化而因时间的推移发生结块、凝固成块状从而使操作变得困难的问题。一种光稳定剂母料,其是如下制成的:相对于(A)利用湿式法制造的二氧化硅100质量份,加入(B)由下述通式(1)表示的受阻胺化合物80~300质量份并进行混合,然后进一步加入(C)利用干式法制造的二氧化硅5~50质量份并进行混合。(式(1)中,R1表示氢原子、羟基、碳原子数1~30的烷基、羟烷基、烷氧基、羟基烷氧基或氧自由基,R2表示碳原子数1~30的烷基、碳原子数2~30的烯基或由下述通式(2)表示的基团。)(式(2)中,R3表示与上述通式(1)中的R1相同的基团。)
技术领域
本发明涉及光稳定剂母料及其制造方法(以下也简称为“母料”和“制造方法”),详细而言,涉及含有二氧化硅和光稳定剂的光稳定剂母料及其制造方法的改良。
背景技术
已知受阻胺化合物、紫外线吸收剂等光稳定剂抑制合成树脂等有机物的、由光导致的劣化。
作为光稳定剂使用的化合物通常优选熔点高、树脂的增塑化、从树脂的挥发少的化合物。然而,若过度进行高分子量化,则会抑制树脂中的光稳定剂的移动,因此,有使稳定化效果变小的倾向。
例如,使2,2,6,6-四甲基哌啶醇类与脂肪酸反应而得到的受阻胺化合物是低熔点的化合物,而且是能够赋予优异的耐候性的化合物。然而,由于是低分子量,因而容易成为液态,制造以高浓度配混了其的母料时,存在受阻胺化合物从母料的表面渗出,而使表面成为粘稠状,母料发生结块这样的问题。
作为改善上述受阻胺化合物在母料中的操作性的问题的方法,例如提出如下方法:置换成在吸油量为150ml/100g以上的粉末状的无机物中浸渗而成的物质的方法(专利文献1);含有结晶成核剂的方法(专利文献2);含有苯并三唑系紫外线吸收剂的方法(专利文献3);单独地制造受阻胺化合物的母料和苯甲酸酯化合物的母料,对其进行混合的方法(专利文献4)。另外,专利文献5中公开了配混有受阻胺化合物、苯甲酸酯化合物和苯并三唑系紫外线吸收剂的母料。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2007/000876号
专利文献2:日本特开2008-189822号公报
专利文献3:国际公开第2013/114652号
专利文献4:国际公开第2014/010492号
专利文献5:日本特开2014-141616号公报
发明内容
然而,利用专利文献1~5中记载的方法所制造的母料即使刚制造后的表面状态良好,在受到环境的温度变化时,随着时间经过而发生结块,母料凝固成块状,产生操作变得困难的问题,需要进一步的改善。
因此,本发明的目的在于提供一种光稳定剂母料及其制造方法,所述光稳定剂母料改善了由于受到环境的温度变化而因时间的推移发生结块、凝固成块状从而使操作变得困难的问题。
本发明人等为了解决上述课题而进行了深入研究,结果发现通过使上述受阻胺化合物在湿式二氧化硅中浸渗,然后进一步加入特定的二氧化硅而得到的母料能够克服上述问题,从而完成了本发明。
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