[发明专利]曝光装置以及曝光方法有效
| 申请号： | 201680018422.9 | 申请日： | 2016-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN107430353B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 大塚明 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B3/00;G02B19/00;G02B26/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供能够实现空间光调制元件的高效率化及长寿命化的曝光装置以及曝光方法。曝光装置(100)具备：微透镜阵列(142)，以阵列状排列有将来自光源的光会聚的微透镜；空间光调制部(数字微镜器件)(12)，排列有对由所述微透镜阵列(142)会聚的光进行调制的像素部；第一成像光学系统(143)，将由所述微透镜阵列(142)会聚的光成像到所述空间光调制部(12)；以及第二成像光学系统(16)，将由所述空间光调制部(12)调制后的光成像到感光材料上。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，具备：微透镜阵列，以阵列状排列有将来自光源的光会聚的微透镜；空间光调制部，排列有对由所述微透镜阵列会聚的光进行调制的像素部；第一成像光学系统，将由所述微透镜阵列会聚的光成像到所述空间光调制部；以及第二成像光学系统，将由所述空间光调制部调制后的光成像到感光材料上。
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